| 摘要 | 第2-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 引言 | 第8-10页 |
| 1 文献综述 | 第10-22页 |
| 1.1 光电化学分解水原理 | 第10-11页 |
| 1.2 光电化学分解水体系 | 第11-12页 |
| 1.3 光解水阳极材料及其改性 | 第12-14页 |
| 1.3.1 构建纳米结构 | 第12页 |
| 1.3.2 半导体掺杂 | 第12-13页 |
| 1.3.3 异质结结构的构筑 | 第13-14页 |
| 1.4 硅基底光解水阳极材料 | 第14-18页 |
| 1.4.1 半导体硅晶体 | 第14页 |
| 1.4.2 硅基底光阳极材料的研究现状 | 第14-18页 |
| 1.5 TiO_2/Si光阳极材料 | 第18-21页 |
| 1.5.1 半导体TiO_2 | 第18-19页 |
| 1.5.2 TiO_2/Si光阳极材料研究现状 | 第19-21页 |
| 1.6 选题意义及研究内容 | 第21-22页 |
| 2 实验部分 | 第22-28页 |
| 2.1 主要药品 | 第22-23页 |
| 2.2 仪器和设备 | 第23-24页 |
| 2.3 实验方案 | 第24-26页 |
| 2.4 测试和表征 | 第26-28页 |
| 2.4.1 场发射扫描电子显微镜 | 第26页 |
| 2.4.2 X射线衍射 | 第26页 |
| 2.4.3 场发射透射电子显微镜 | 第26页 |
| 2.4.4 X射线光电子能谱仪 | 第26页 |
| 2.4.5 原子力显微镜 | 第26页 |
| 2.4.6 热蒸镀 | 第26-27页 |
| 2.4.7 电化学表征 | 第27-28页 |
| 3 硅基底诱导生长TiO_2及其表征 | 第28-47页 |
| 3.1 Si基底诱导生长TiO_2 | 第28-29页 |
| 3.2 TiO_2/Si样品的表征与分析 | 第29-45页 |
| 3.2.1 TiO_2/Si样品表面SEM表征 | 第29页 |
| 3.2.2 硅基底二氧化钛薄膜表面XRD表征 | 第29-35页 |
| 3.2.3 TiO_2/Si截面HRTEM和EDS表征 | 第35-37页 |
| 3.2.4 不同硅基底TiO_2/Si样品XPS分析 | 第37-41页 |
| 3.2.5 样品表面SEM分析 | 第41-45页 |
| 3.3 本章小结 | 第45-47页 |
| 4 Ni/TiO_2/Si光阳极的制备表征 | 第47-61页 |
| 4.1 Ni/TiO_2/Si光阳极的制备 | 第47-48页 |
| 4.2 Ni/TiO_2/Si光阳极的表征分析与讨论 | 第48-59页 |
| 4.2.1 Ni/TiO_2/Si光阳极的SEM表征 | 第48页 |
| 4.2.2 Ni/TiO_2/Si光阳极的XPS表征 | 第48-49页 |
| 4.2.3 Ni/TiO_2/Si光阳极的光电化学表征 | 第49-59页 |
| 4.3 本章小结 | 第59-61页 |
| 结论 | 第61-62页 |
| 创新点及展望 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-70页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71-73页 |
