| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第1章 绪论 | 第13-23页 |
| 1.1 研究背景 | 第13-15页 |
| 1.2 熔盐堆用结构材料腐蚀的国内外研究进展 | 第15-19页 |
| 1.3 本论文的研究意义 | 第19-20页 |
| 1.4 本论文的研究内容和技术路线 | 第20-23页 |
| 第2章 实验材料、设备及表征方法 | 第23-31页 |
| 2.1 实验材料 | 第23-24页 |
| 2.2 实验设备 | 第24-28页 |
| 2.2.1 激光实验设备 | 第24-26页 |
| 2.2.2 电沉积实验设备 | 第26-27页 |
| 2.2.3 腐蚀实验设备 | 第27-28页 |
| 2.3 主要表征方法 | 第28-31页 |
| 2.3.1 金相显微镜 | 第28-29页 |
| 2.3.2 扫描电子显微镜(SEM) | 第29-30页 |
| 2.3.3 X射线衍射仪(XRD) | 第30-31页 |
| 第3章 Hastelloy N基材及激光熔覆NiCoCrAlY涂层的腐蚀行为 | 第31-43页 |
| 3.1 激光熔覆NiCoCrAlY涂层制备 | 第31-32页 |
| 3.2 Hastelloy N基材与NiCoCrAlY涂层腐蚀失重研究 | 第32页 |
| 3.3 Hastelloy N基材显微组织分析 | 第32-35页 |
| 3.3.1 Hastelloy N基材表面SEM分析 | 第32-33页 |
| 3.3.2 Hastelloy N基材截面SEM分析 | 第33-35页 |
| 3.3.3 Hastelloy N基材XRD物相分析 | 第35页 |
| 3.4 NiCoCrAlY涂层显微组织分析 | 第35-40页 |
| 3.4.1 NiCoCrAlY涂层表面SEM分析 | 第35-36页 |
| 3.4.2 NiCoCrAlY涂层截面SEM分析 | 第36-39页 |
| 3.4.3 NiCoCrAlY涂层XRD物相分析 | 第39-40页 |
| 3.5 Hastelloy N基材与NiCoCrAlY涂层的腐蚀机理 | 第40-41页 |
| 3.6 本章小结 | 第41-43页 |
| 第4章 激光熔覆纯金属(Ni、Co)涂层的腐蚀行为 | 第43-55页 |
| 4.1 激光熔覆纯金属(Ni、Co)涂层制备 | 第43页 |
| 4.2 纯金属(Ni、Co) 涂层腐蚀失重研究 | 第43-44页 |
| 4.3 纯Ni涂层显微组织分析 | 第44-48页 |
| 4.3.1 纯Ni涂层表面SEM分析 | 第44-45页 |
| 4.3.2 纯Ni涂层截面SEM分析 | 第45-47页 |
| 4.3.3 纯Ni涂层XRD物相分析 | 第47-48页 |
| 4.4 纯Co涂层显微组织分析 | 第48-52页 |
| 4.4.1 纯Co涂层表面SEM分析 | 第48-49页 |
| 4.4.2 纯Co涂层截面SEM分析 | 第49-51页 |
| 4.4.3 纯Co涂层XRD物相分析 | 第51-52页 |
| 4.5 纯金属(Ni、Co)涂层的腐蚀机理 | 第52-53页 |
| 4.6 本章小结 | 第53-55页 |
| 第5章 电沉积纯Ni涂层的腐蚀行为 | 第55-63页 |
| 5.1 电沉积纯Ni涂层制备 | 第55-56页 |
| 5.2 电沉积纯Ni涂层腐蚀失重研究 | 第56-57页 |
| 5.3 电沉积纯Ni涂层显微组织分析 | 第57-60页 |
| 5.3.1 电沉积纯Ni涂层SEM分析 | 第57-59页 |
| 5.3.2 电沉积纯Ni涂层XRD物相分析 | 第59-60页 |
| 5.4 电沉积纯Ni涂层的腐蚀机理 | 第60-61页 |
| 5.5 本章小结 | 第61-63页 |
| 第6章 结论与展望 | 第63-65页 |
| 6.1 主要结论 | 第63-64页 |
| 6.2 不足与展望 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-71页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第71-73页 |
| 致谢 | 第73页 |
