| 创新之处 | 第5-6页 |
| 中文摘要 | 第6-8页 |
| ABSTRACT | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第11-44页 |
| 1.1 场致发射的介绍 | 第12-16页 |
| 1.1.1 电子发射 | 第12-13页 |
| 1.1.2 场发射理论 | 第13-14页 |
| 1.1.3 半导体的场致发射 | 第14-15页 |
| 1.1.4 场发射的基本概念 | 第15-16页 |
| 1.2 场发射冷阴极材料的发展历史 | 第16-18页 |
| 1.3 一维复合纳米场发射材料的研究进展 | 第18-32页 |
| 1.3.1 核壳复合纳米材料 | 第18-25页 |
| 1.3.2 纳米粒子修饰形成的一维复合纳米材料 | 第25-30页 |
| 1.3.3 异质结型复合纳米材料 | 第30-32页 |
| 1.4 氮化铝一维纳米材料的研究进展 | 第32-37页 |
| 1.4.1 氮化铝的性质 | 第32页 |
| 1.4.2 氮化铝一维纳米材料在场发射中的应用 | 第32-37页 |
| 1.5 本论文的研究思路 | 第37-38页 |
| 参考文献 | 第38-44页 |
| 第二章 CsI-AlN复合纳米材料的制备及场发射性能研究 | 第44-58页 |
| 2.1 概述 | 第44-45页 |
| 2.2 实验过程与表征方法 | 第45-46页 |
| 2.2.1 AlN纳米锥阵列的制备 | 第45页 |
| 2.2.2 CsI-AlN复合材料的制备 | 第45页 |
| 2.2.3 表征 | 第45-46页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第46-55页 |
| 2.4 本章小结 | 第55页 |
| 参考文献 | 第55-58页 |
| 第三章 AlN基核壳纳米锥的制备及场发射性能研究 | 第58-73页 |
| 3.1 概述 | 第58-59页 |
| 3.2 实验过程与表征方法 | 第59-60页 |
| 3.2.1 AlN纳米锥阵列的制备 | 第59页 |
| 3.2.2 AlN基核壳纳米锥的制备 | 第59-60页 |
| 3.2.3 表征 | 第60页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第60-69页 |
| 3.4 本章小结 | 第69页 |
| 参考文献 | 第69-73页 |
| 第四章 ZnO-CN_x-AlN纳米异质结构的制备及场发射性能研究 | 第73-85页 |
| 4.1 概述 | 第73-74页 |
| 4.2 实验过程与表征方法 | 第74-75页 |
| 4.2.1 ZnO纳米棒阵列的制备 | 第74页 |
| 4.2.2 ZnO-CN_x纳米复合结构的制备 | 第74页 |
| 4.2.3 ZnO-CN_x-AlN纳米复合结构的制备 | 第74-75页 |
| 4.2.4 表征 | 第75页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第75-81页 |
| 4.4 本章小结 | 第81-82页 |
| 参考文献 | 第82-85页 |
| 展望 | 第85-86页 |
| 攻博期间概况 | 第86-88页 |
| 致谢 | 第88-89页 |
