| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-33页 |
| 1.1 课题背景及研究的目的和意义 | 第9-10页 |
| 1.2 Al/Ni叠层箔的制备方法研究进展 | 第10-18页 |
| 1.2.1 冷轧 | 第10-13页 |
| 1.2.2 磁控溅射 | 第13-14页 |
| 1.2.3 EBPVD | 第14-18页 |
| 1.3 Al/Ni叠层箔的反应过程研究现状 | 第18-30页 |
| 1.3.1 反应过程放热分析 | 第18-22页 |
| 1.3.2 反应过程的相变分析 | 第22-26页 |
| 1.3.3 自蔓延反应表征 | 第26-30页 |
| 1.4 Al/Ni叠层箔的应用 | 第30-32页 |
| 1.5 本文的主要研究内容 | 第32-33页 |
| 第2章 设备、材料与实验方法 | 第33-40页 |
| 2.1 EBPVD设备 | 第33页 |
| 2.2 实验原料 | 第33-34页 |
| 2.3 Al/Ni叠层箔的EBPVD制备 | 第34-35页 |
| 2.4 Al/Ni叠层箔相组成和显微结构分析 | 第35-36页 |
| 2.4.1 X射线衍射分析 | 第35-36页 |
| 2.4.2 光学显微镜分析 | 第36页 |
| 2.4.3 扫描电子显微分析 | 第36页 |
| 2.5 Al/Ni叠层箔控制升温速率的加热实验 | 第36-38页 |
| 2.5.1 DSC实验 | 第36页 |
| 2.5.2 加热过程中Al/Ni叠层箔的相变分析 | 第36-38页 |
| 2.6 Al/Ni叠层箔的自蔓延测速实验 | 第38-40页 |
| 第3章 基于EBPVD方法的Al/Ni叠层箔制备工艺研究 | 第40-58页 |
| 3.1 引言 | 第40页 |
| 3.2 工艺控制方法及设备改造方案研究 | 第40-51页 |
| 3.2.1 Al的蒸发坩埚的选择 | 第40-43页 |
| 3.2.2 Al、Ni蒸汽的空间分隔 | 第43-44页 |
| 3.2.3 沉积过程中的控温问题 | 第44-51页 |
| 3.3 设备改造方案与工艺参数 | 第51-56页 |
| 3.3.1 L5型EBPVD设备改造方案 | 第51-53页 |
| 3.3.2 工艺参数及制得的Al/Ni叠层箔试样 | 第53-56页 |
| 3.4 本章小结 | 第56-58页 |
| 第4章 EBPVD制备的Al/Ni叠层箔组织结构 | 第58-75页 |
| 4.1 引言 | 第58页 |
| 4.2 Al/Ni叠层箔的相组成分析 | 第58-61页 |
| 4.3 Al/Ni叠层箔的显微组织结构 | 第61-74页 |
| 4.3.1 截面显微组织结构 | 第61-69页 |
| 4.3.2 表面显微组织结构 | 第69-74页 |
| 4.4 本章小结 | 第74-75页 |
| 第5章 EBPVD制备的Al/Ni叠层箔反应机制研究 | 第75-86页 |
| 5.1 引言 | 第75页 |
| 5.2 Al/Ni叠层箔控制升温速率的加热实验 | 第75-81页 |
| 5.2.1 DSC分析 | 第75-76页 |
| 5.2.2 加热过程中Al/Ni叠层箔的相组成变化 | 第76-81页 |
| 5.3 自蔓延过程研究 | 第81-84页 |
| 5.4 本章小结 | 第84-86页 |
| 结论 | 第86-88页 |
| 参考文献 | 第88-94页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及其它成果 | 第94-96页 |
| 致谢 | 第96页 |
