| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 前言 | 第10-19页 |
| 1.1 光催化背景 | 第10-12页 |
| 1.1.1 能源危机 | 第10页 |
| 1.1.2 光催化在能源转化上的发展 | 第10-11页 |
| 1.1.3 环境危害 | 第11-12页 |
| 1.2 光催化原理 | 第12-15页 |
| 1.2.1 半导体能带理论 | 第12-13页 |
| 1.2.2 光激发过程 | 第13-14页 |
| 1.2.3 光催化反应机理研究 | 第14-15页 |
| 1.3 氧化钨 | 第15-17页 |
| 1.3.1 氧化钨介绍 | 第15页 |
| 1.3.2 WO_3的基本特性 | 第15-16页 |
| 1.3.3 WO_3在光催化中的应用 | 第16-17页 |
| 1.3.4 复合型光催化剂的优点 | 第17页 |
| 1.4 立题依据和研究内容 | 第17-19页 |
| 第二章 试剂和实验方法 | 第19-25页 |
| 2.1 试剂与药品 | 第19-20页 |
| 2.2 催化剂的制备 | 第20-21页 |
| 2.2.1 WO_3纳米材料的制备 | 第20页 |
| 2.2.2 WO_3/BiVO_4复合材料的制备 | 第20-21页 |
| 2.2.3 氧化钨纳米材料在不同氛围下处理后的催化剂 | 第21页 |
| 2.3 催化材料表征手段 | 第21-22页 |
| 2.3.1 X射线衍射仪(XRD) | 第21页 |
| 2.3.2 场发射扫描电子显微镜(FESEM) | 第21页 |
| 2.3.3 透射电子显微镜(TEM/HRTEM) | 第21页 |
| 2.3.4 X射线光电子能谱(XPS) | 第21-22页 |
| 2.3.5 镀膜方法 | 第22页 |
| 2.3.6 光电流测试 | 第22页 |
| 2.3.7 交流阻抗测试 | 第22页 |
| 2.3.8 紫外可见漫反射(UV-Vis) | 第22页 |
| 2.4 光解水活性测试 | 第22-25页 |
| 第三章 单斜WO_3纳米材料的制备和其光电催化全分解水的研究 | 第25-42页 |
| 3.1 引言 | 第25-26页 |
| 3.2 实验部分 | 第26-27页 |
| 3.2.1 催化剂材料的制备 | 第26页 |
| 3.2.2 检测光电催化活性的装置图 | 第26-27页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第27-40页 |
| 3.3.1 不同HF浓度刻蚀形成的WO_3纳米材料 | 第27-32页 |
| 3.3.2 不同刻蚀时间形成的WO_3纳米材料 | 第32-36页 |
| 3.3.3 不同温度刻蚀形成的WO_3纳米材料 | 第36-40页 |
| 3.3.4 最优催化剂的光电催化全分解水重复性实验 | 第40页 |
| 3.4 WO_3纳米材料光电催化全分解水反应机理 | 第40-41页 |
| 3.5 本章小结 | 第41-42页 |
| 第四章 WO_3/BiVO_4复合材料的制备以及其光电催化性能 | 第42-49页 |
| 4.1 引言 | 第42-43页 |
| 4.2 实验过程 | 第43-44页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第44-47页 |
| 4.3.1 WO_3/BiVO_4复合材料的XRD图谱分析 | 第44-45页 |
| 4.3.2 WO_3/BiVO_4复合材料的FE-SEM图谱分析 | 第45页 |
| 4.3.3 WO_3/BiVO_4复合材料光电催化全分解水的活性探究 | 第45-46页 |
| 4.3.4 WO_3/BiVO_4电极的紫外可见漫反射光谱的分析 | 第46-47页 |
| 4.3.5 WO_3/BiVO_4电极的阻抗和光电流性能测试 | 第47页 |
| 4.4 WO_3/BiVO_4纳米材料光电催化全分解水反应机理 | 第47-48页 |
| 4.5 本章小结 | 第48-49页 |
| 第五章 氧化钨纳米材料在不同氛围下处理后的光电催化性能研究 | 第49-55页 |
| 5.1 引言 | 第49-50页 |
| 5.2 实验过程 | 第50页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第50-54页 |
| 5.3.1 不同氛围下处理之后的样品的XRD分析 | 第50-51页 |
| 5.3.2 不同氛围下处理过后的材料的FE-SEM形貌 | 第51-52页 |
| 5.3.3 不同氛围下处理得到的样品的光电催化活性 | 第52页 |
| 5.3.4 不同氛围下处理的WO_3电极的紫外可见漫反射光谱的分析 | 第52-53页 |
| 5.3.5 不同氛围下处理后的氧化钨电极的阻抗和光电流性能测试 | 第53-54页 |
| 5.4 本章总结 | 第54-55页 |
| 第六章 总结与展望 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-71页 |
| 个人简历 | 第71页 |
| 攻读学位期间取得的研究成果 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72页 |
