| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第12-20页 |
| 1.1 芳环上的的取代基效应简介 | 第12-15页 |
| 1.1.1 Hammett参数σ | 第12-13页 |
| 1.1.2 自旋离域效应常数 | 第13-14页 |
| 1.1.3 激发态取代基常数 | 第14-15页 |
| 1.2 取代基效应对芳基席夫碱性能影响的研究现状 | 第15-17页 |
| 1.2.1 对紫外吸收光谱的影响 | 第15页 |
| 1.2.2 对核磁共振化学位移的影响 | 第15-16页 |
| 1.2.3 对电化学性能的影响 | 第16-17页 |
| 1.3 本文的选题思路及研究内容 | 第17-20页 |
| 第二章 实验部分 | 第20-38页 |
| 2.1 实验仪器与试剂 | 第20-22页 |
| 2.1.1 实验仪器 | 第20页 |
| 2.1.2 实验试剂 | 第20-22页 |
| 2.2 二取代二苯基硝酮(XPNY)的合成 | 第22-23页 |
| 2.2.1 合成路线方法 | 第22-23页 |
| 2.3 目标化合物的性能测定 | 第23-24页 |
| 2.3.1 核磁共振(NMR)谱测定 | 第23页 |
| 2.3.2 紫外(UV)光谱测定 | 第23页 |
| 2.3.3 还原电位(E_(red))测定 | 第23-24页 |
| 2.4 XPNY的 ~1H NMR和~(13)C NMR数据 | 第24-38页 |
| 第三章 取代基效应对XPNY的UV吸收和E_(red)等的影响 | 第38-70页 |
| 3.1 对紫外吸收能量(v_(max))的影响 | 第38-49页 |
| 3.1.1 模型的建立 | 第39-41页 |
| 3.1.2 取代基效应对XPNY的v_(max)的影响 | 第41-44页 |
| 3.1.3 XBAY,XPNY和XPEAY的λ_(max)变化规律比较 | 第44-46页 |
| 3.1.4 侧基的作用 | 第46-48页 |
| 3.1.5 本节小结 | 第48-49页 |
| 3.2 对还原电位的影响 | 第49-60页 |
| 3.2.1 XPNY的E_(red)相关分析 | 第54页 |
| 3.2.2 XPNY与XPEAY的E_(red)变化对比 | 第54-55页 |
| 3.2.3 XBAY、XPEAY和XPNY的E_(red)变化对比 | 第55-59页 |
| 3.2.4 本节小结 | 第59-60页 |
| 3.3 对C=N桥键的~1H NMR化学位移δH(CH=N(O))的影响 | 第60-70页 |
| 3.3.1 数据准备 | 第62-64页 |
| 3.3.2 影响δH(CH=N(O))的因素分析及讨论 | 第64-69页 |
| 3.3.3 本节小结 | 第69-70页 |
| 第四章 结论与展望 | 第70-72页 |
| 4.1 结论 | 第70-71页 |
| 4.2 展望 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-82页 |
| 致谢 | 第82-84页 |
| 附录A 攻读硕土期间发表的论文 | 第84-86页 |
| 附录B 目标化合物的核磁共振谱 | 第86-125页 |
