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不同形貌的改性Bi2WO6的制备及其在可见光下降解甲醛的研究

摘要第4-5页
abstract第5-6页
第一章 绪论第10-31页
    1.1 光催化材料的独特结构和优良特性第10-11页
        1.1.1 钨酸铋的结构与特性第10页
        1.1.2 石墨烯的结构和特性第10-11页
    1.2 钨酸铋的制备方法第11-15页
        1.2.1 水热法或溶剂热法第11-12页
        1.2.2 分子自组装法第12-13页
        1.2.3 固态反应法第13页
        1.2.4 静电纺丝法第13页
        1.2.5 低温燃烧法第13-14页
        1.2.6 溶胶-凝胶法第14-15页
        1.2.7 微乳液法第15页
        1.2.8 其它方法第15页
    1.3 钨酸铋的改性方法第15-24页
        1.3.1 负载改性第16-17页
        1.3.2 金属沉积第17-18页
        1.3.3 离子掺杂第18-23页
        1.3.4 半导体复合改性第23页
        1.3.5 共掺杂第23-24页
    1.4 改性钨酸铋的光催化机理第24-27页
        1.4.1 石墨烯负载型光催化机理第24-25页
        1.4.2 金属沉积型光催化机理第25-26页
        1.4.3 掺杂型光催化机理第26页
        1.4.4 复合型光催化机理第26-27页
    1.5 光催化材料的应用前景第27-29页
        1.5.1 光降解室内废气的应用第27-28页
        1.5.2 光降解废水的应用第28页
        1.5.3 能源方面的应用第28-29页
        1.5.4 其它方面的应用第29页
    1.6 本论文研究工作及意义第29-31页
第二章 实验部分第31-39页
    2.1 实验试剂及仪器第31-32页
        2.1.1 实验试剂第31-32页
        2.1.2 实验仪器第32页
    2.2 催化剂的制备方法第32-33页
        2.2.1 氧化石墨的制备方法第32-33页
        2.2.2 Bi_2WO_6、GO/BWO和rGO/BWO的制备方法第33页
    2.3 常用材料测试表征方法第33-36页
        2.3.1 X射线衍射分析(XRD)第33-34页
        2.3.2 扫描电子显微镜(SEM)第34-35页
        2.3.3 透射电子显微镜(TEM)第35页
        2.3.4 紫外-可见漫反射光谱分析(UV-vis DRS)第35页
        2.3.5 红外光谱分析(FT-IR)第35-36页
        2.3.6 拉曼光谱分析(Raman)第36页
    2.4 光催化性能测试第36-39页
        2.4.1 实验装置第36-37页
        2.4.2 测试方法第37-39页
第三章 氧化石墨烯的制备影响因素研究第39-49页
    3.1 原材料的影响第39-42页
    3.2 高温(98℃)反应时间的影响第42-44页
    3.3 高锰酸钾添加速度的影响第44-46页
    3.4 中温法与改进Hummers法比较第46-47页
    3.5 本章小结第47-49页
第四章 中性条件下制备的改性钨酸铋催化剂的表征第49-57页
    4.1 改性钨酸铋的表征第49-51页
    4.2 不同GO添加量的GO/BWO表征第51-53页
    4.3 不同GO添加量rGO/BWO的表征第53-55页
    4.4 不同GO添加量还原前后比较第55-56页
    4.5 本章小结第56-57页
第五章 酸性条件下制备的改性钨酸铋催化剂的表征第57-66页
    5.1 改性钨酸铋的表征第57-59页
    5.2 不同GO添加量GO/BWO的表征第59-61页
    5.3 不同GO添加量rGO/BWO的表征第61-62页
    5.4 不同GO添加量还原前后比较第62-64页
    5.5 改性钨酸铋的SEM图第64-65页
    5.6 本章小结第65-66页
第六章 光催化降解气相甲醛的研究第66-70页
    6.1 中性条件下制得的催化剂的活性测试第66-67页
    6.2 酸性条件下制得的催化剂的活性测试第67-69页
    6.3 不同催化剂催化效果比较第69页
    6.4 本章小结第69-70页
第七章 结论与展望第70-72页
    7.1 结论第70页
    7.2 展望第70-72页
参考文献第72-83页
发表论文和参加科研情况说明第83-84页
致谢第84-85页

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