| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4页 |
| 第1章 绪论 | 第7-15页 |
| 1.1 衍射光栅概述 | 第7-11页 |
| 1.1.1 光栅的结构 | 第7-9页 |
| 1.1.2 亚波长光栅理论研究概述 | 第9-10页 |
| 1.1.3 光栅的透射现象 | 第10-11页 |
| 1.2 光栅中的共振异常 | 第11-12页 |
| 1.2.1 亚波长中的导模共振异常 | 第11-12页 |
| 1.2.2 金属光栅的表面等离子体共振 | 第12页 |
| 1.3 光栅的制作工艺研究进展 | 第12-14页 |
| 1.4 本文研究内容 | 第14-15页 |
| 第2章 聚合物衍射光栅的衍射性质分析 | 第15-38页 |
| 2.1 聚合物平面二元相位光栅的标量衍射理论分析 | 第15-20页 |
| 2.1.1 模型 | 第15-17页 |
| 2.1.2 衍射性质分析 | 第17-20页 |
| 2.2 聚合物亚波长光栅的矢量衍射理论分析 | 第20-23页 |
| 2.2.1 结构模型及亚波长光栅层的等效介质描述 | 第20-21页 |
| 2.2.2 波导光栅薄膜的导模共振 | 第21-23页 |
| 2.3 单层波导光栅计算实例 | 第23-30页 |
| 2.3.1 弱调制度光栅 | 第23-27页 |
| 2.3.2 强调制度光栅 | 第27-30页 |
| 2.4 一维介质亚波长光栅衍射的偏振特性 | 第30-32页 |
| 2.5 双层亚波长光栅导模共振模拟 | 第32-37页 |
| 2.6 本章小结 | 第37-38页 |
| 第3章 聚合物光栅的制作工艺 | 第38-55页 |
| 3.1 基于数字掩模光刻技术平面聚合物二元相位光栅的制作 | 第38-47页 |
| 3.1.1 制作工艺流程 | 第39-43页 |
| 3.1.2 白光干涉轮廓仪表征 | 第43-47页 |
| 3.2 基于数字掩模光刻技术可调谐光栅的制作 | 第47-54页 |
| 3.2.1 制作工艺流程 | 第47-49页 |
| 3.2.2 白光干涉轮廓仪表征 | 第49-52页 |
| 3.2.3 PDMS亚波长光栅的复制 | 第52-54页 |
| 3.3 本章小结 | 第54-55页 |
| 第4章 聚合物光栅的衍射性质研究 | 第55-61页 |
| 4.1 聚合物二元相位光栅的衍射性质测试 | 第55-56页 |
| 4.2 PDMS柔性光栅的衍射性质测试 | 第56-60页 |
| 4.2.1 应力测试实验 | 第56-58页 |
| 4.2.2 衍射实验 | 第58-60页 |
| 4.3 本章小结 | 第60-61页 |
| 第5章 总结与展望 | 第61-63页 |
| 5.1 总结 | 第61-62页 |
| 5.2 展望 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-68页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69页 |