| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-23页 |
| 1.1 课题的来源、目的及意义 | 第10-11页 |
| 1.2 集成微波光子学的国内外发展动态 | 第11-14页 |
| 1.3 石墨烯光调制器的国内外发展动态 | 第14-21页 |
| 1.3.1 国外研究现状 | 第14-18页 |
| 1.3.2 国内研究现状 | 第18-21页 |
| 1.4 国内外研究现状分析 | 第21-22页 |
| 1.5 本课题主要研究内容 | 第22-23页 |
| 第2章 硅基石墨烯电光调制器的理论及仿真 | 第23-42页 |
| 2.1 引言 | 第23-24页 |
| 2.2 石墨烯理论模型分析 | 第24-32页 |
| 2.2.1 石墨烯的能带结构分析 | 第24-27页 |
| 2.2.2 石墨烯的基本电学光学特性分析 | 第27-32页 |
| 2.3 硅基石墨烯复合波导特性 | 第32-34页 |
| 2.3.1 石墨烯的量子电容 | 第32-33页 |
| 2.3.2 硅基石墨烯电光调制速率的理论分析 | 第33页 |
| 2.3.3 硅基石墨烯波导的理论分析 | 第33-34页 |
| 2.4 硅波导传输特性的仿真 | 第34-37页 |
| 2.4.1 硅波导模式分析 | 第34-35页 |
| 2.4.2 影响波导性能的因素分析 | 第35-37页 |
| 2.5 硅基石墨烯电光调制器仿真分析 | 第37-40页 |
| 2.5.1 硅基石墨烯直波导电光调制器性能仿真 | 第37-39页 |
| 2.5.2 硅基石墨烯马赫-增德尔型电光调制器性能仿真 | 第39-40页 |
| 2.6 本章小结 | 第40-42页 |
| 第3章 硅基石墨烯电光调制器的工艺及制备 | 第42-57页 |
| 3.1 引言 | 第42页 |
| 3.2 硅基石墨烯电光调制器的制备方案设计 | 第42-45页 |
| 3.2.1 设计思路 | 第42-43页 |
| 3.2.2 设计方案 | 第43-44页 |
| 3.2.3 加工方案 | 第44-45页 |
| 3.3 硅纳米线波导和下电极的制备 | 第45-49页 |
| 3.3.1 工艺探索与制备过程 | 第45-46页 |
| 3.3.2 硅纳米线波导和下电极的性能测试 | 第46-49页 |
| 3.4 氧化铝介质层及上电极的制备 | 第49-52页 |
| 3.4.1 工艺探索与制备过程 | 第49-51页 |
| 3.4.2 氧化铝介质层及上电极的性能测试 | 第51-52页 |
| 3.5 石墨烯与硅纳米波导复合结构的制备 | 第52-56页 |
| 3.5.1 工艺探索与制备过程 | 第52-54页 |
| 3.5.2 硅基石墨烯电光调制器的制备结果 | 第54-56页 |
| 3.6 本章小结 | 第56-57页 |
| 第4章 硅基石墨烯电光调制器的性能测试实验 | 第57-68页 |
| 4.1 引言 | 第57页 |
| 4.2 全光调制器特性测量的实验方案设计 | 第57-59页 |
| 4.3 硅基石墨烯全光调制器的性能测试 | 第59-63页 |
| 4.3.1 测试系统的搭建 | 第59-60页 |
| 4.3.2 全光调制器性能的测试 | 第60-63页 |
| 4.4 石墨烯电光调制器动态特性 | 第63-65页 |
| 4.4.1 电光调制器工艺的优化 | 第63-64页 |
| 4.4.2 电光调制器动态特性的测试 | 第64-65页 |
| 4.5 调制器性能测试数据的分析与优化 | 第65-67页 |
| 4.5.1 测量数据分析 | 第65-66页 |
| 4.5.2 全光调制器性能优化方案及展望 | 第66-67页 |
| 4.6 本章小结 | 第67-68页 |
| 结论 | 第68-70页 |
| 参考文献 | 第70-75页 |
| 致谢 | 第75页 |