| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-18页 |
| 1.1 课题背景 | 第9页 |
| 1.2 透明导电氧化物薄膜概述 | 第9-10页 |
| 1.3 常见的几种透明导电氧化物薄膜 | 第10-13页 |
| 1.3.1 In_2O_3薄膜及其掺杂体系 | 第10-11页 |
| 1.3.2 SnO_2薄膜及其掺杂体系 | 第11-12页 |
| 1.3.3 ZnO薄膜及其掺杂体系 | 第12-13页 |
| 1.4 FTO薄膜的制备方法 | 第13-16页 |
| 1.4.1 溶胶-凝胶法 | 第13页 |
| 1.4.2 磁控溅射法 | 第13-14页 |
| 1.4.3 化学气相沉积法 | 第14页 |
| 1.4.4 喷雾热解法 | 第14-16页 |
| 1.5 高雾度透明导电薄膜的研究现状 | 第16-17页 |
| 1.6 本论文研究的主要内容 | 第17-18页 |
| 第2章 实验过程及方法 | 第18-28页 |
| 2.1 超声喷雾热解法的原理 | 第18页 |
| 2.2 超声喷雾热解法制备FTO薄膜 | 第18-21页 |
| 2.2.1 喷雾热解液的配制 | 第19-20页 |
| 2.2.2 FTO薄膜的制备 | 第20-21页 |
| 2.3 FTO薄膜的性能测试及表征方法 | 第21-27页 |
| 2.3.1 X射线衍射分析 | 第21-22页 |
| 2.3.2 冷场发射扫描电镜分析 | 第22-23页 |
| 2.3.3 原子力显微镜分析 | 第23-24页 |
| 2.3.4 紫外-可见光分光光度计分析 | 第24-25页 |
| 2.3.5 薄膜方块电阻测试 | 第25-26页 |
| 2.3.6 薄膜雾度测试 | 第26-27页 |
| 2.4 本章小结 | 第27-28页 |
| 第3章 结果与讨论 | 第28-57页 |
| 3.1 基板温度对FTO薄膜微观形态与性能的影响 | 第28-37页 |
| 3.1.1 基板温度对FTO薄膜结构的影响 | 第28-30页 |
| 3.1.2 基板温度对FTO薄膜形貌的影响 | 第30-34页 |
| 3.1.3 基板温度对FTO薄膜透射比及方块电阻的影响 | 第34-36页 |
| 3.1.4 基板温度对FTO薄膜雾度的影响 | 第36-37页 |
| 3.2 喷涂时间对FTO薄膜微观形态与性能的影响 | 第37-45页 |
| 3.2.1 喷涂时间对FTO薄膜结构的影响 | 第37-39页 |
| 3.2.2 喷涂时间对FTO薄膜形貌的影响 | 第39-43页 |
| 3.2.3 喷涂时间对FTO薄膜透射比及方块电阻的影响 | 第43-44页 |
| 3.2.4 喷涂时间对FTO薄膜雾度的影响 | 第44-45页 |
| 3.3 MBTC浓度对FTO薄膜微观形态与性能的影响 | 第45-52页 |
| 3.3.1 MBTC浓度对FTO薄膜结构的影响 | 第45-47页 |
| 3.3.2 MBTC浓度对FTO薄膜形貌的影响 | 第47-50页 |
| 3.3.3 MBTC浓度对FTO薄膜透射比及方块电阻的影响 | 第50-51页 |
| 3.3.4 MBTC浓度对FTO薄膜雾度的影响 | 第51-52页 |
| 3.4 FTO薄膜雾度的控制机理 | 第52-55页 |
| 3.4.1 透明导电薄膜雾度调控的原理 | 第52-53页 |
| 3.4.2 FTO薄膜表面形貌与雾度的关系 | 第53-55页 |
| 3.5 本章小结 | 第55-57页 |
| 结论 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-63页 |
| 攻读硕士学位期间承担的科研任务与主要成果 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64页 |
