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TiO2和LiNbO3低指数面光催化性能研究

摘要第3-5页
ABSTRACT第5-7页
第一章 绪论第10-42页
    1.1 光催化技术研究背景第10-11页
    1.2 半导体光催化反应第11-13页
        1.2.1 半导体光催化反应机制第11-12页
        1.2.2 半导体光催化反应过程第12-13页
    1.3 半导体光催化材料研究进展第13-25页
        1.3.1 半导体光催化材料简介第13-15页
        1.3.2 半导体光催化材料TiO_2第15-19页
        1.3.3 钙钛矿型光催化材料第19-25页
    1.4 光催化反应的影响因素第25-35页
        1.4.1 晶相结构的影响第26页
        1.4.2 能带位置与禁带宽度的影响第26-28页
        1.4.3 颗粒尺寸的影响第28-29页
        1.4.4 光生电子和空穴利用率的影响第29-31页
        1.4.5 结晶化程度的影响第31页
        1.4.6 比表面积的影响第31-32页
        1.4.7 晶面的影响第32-35页
    1.5 本文研究内容和研究意义第35-37页
    参考文献第37-42页
第二章 实验部分第42-54页
    2.1 主要实验用品第42页
    2.2 物性表征及原理第42-48页
        2.2.1 X射线衍射的基本原理第42-43页
        2.2.2 光电子能谱的基本原理第43-45页
        2.2.3 漫反射吸收光谱的基本原理第45-46页
        2.2.4 原子力显微镜的基本原理第46-48页
    2.3 光催化性能评价体系第48-49页
    2.4 光电化学性能评价体系第49-51页
        2.4.1 光电化学性能评价装置第49-50页
        2.4.2 光电化学性能评价方法第50-51页
    2.5 理论计算第51-52页
    参考文献第52-54页
第三章 金红石相TiO_2(001)、(100)和(110)面光催化性能研究第54-68页
    3.1 引言第54-56页
    3.2 实验部分第56-57页
        3.2.1 样品制备第56页
        3.2.2 样品表征第56-57页
    3.3 结果与讨论第57-66页
    本章小结第66页
    参考文献第66-68页
第四章 铁电自发极化对LiNbO_3光催化性能影响第68-78页
    4.1 引言第68-70页
    4.2 实验部分第70-71页
        4.2.1 样品制备第70页
        4.2.2 样品表征第70-71页
    4.3 结果与讨论第71-75页
    本章小结第75页
    参考文献第75-78页
结论与展望第78-80页
攻读硕士学位期间学术成果第80-82页
致谢第82-84页

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