摘要 | 第3-5页 |
ABSTRACT | 第5-7页 |
第一章 绪论 | 第10-42页 |
1.1 光催化技术研究背景 | 第10-11页 |
1.2 半导体光催化反应 | 第11-13页 |
1.2.1 半导体光催化反应机制 | 第11-12页 |
1.2.2 半导体光催化反应过程 | 第12-13页 |
1.3 半导体光催化材料研究进展 | 第13-25页 |
1.3.1 半导体光催化材料简介 | 第13-15页 |
1.3.2 半导体光催化材料TiO_2 | 第15-19页 |
1.3.3 钙钛矿型光催化材料 | 第19-25页 |
1.4 光催化反应的影响因素 | 第25-35页 |
1.4.1 晶相结构的影响 | 第26页 |
1.4.2 能带位置与禁带宽度的影响 | 第26-28页 |
1.4.3 颗粒尺寸的影响 | 第28-29页 |
1.4.4 光生电子和空穴利用率的影响 | 第29-31页 |
1.4.5 结晶化程度的影响 | 第31页 |
1.4.6 比表面积的影响 | 第31-32页 |
1.4.7 晶面的影响 | 第32-35页 |
1.5 本文研究内容和研究意义 | 第35-37页 |
参考文献 | 第37-42页 |
第二章 实验部分 | 第42-54页 |
2.1 主要实验用品 | 第42页 |
2.2 物性表征及原理 | 第42-48页 |
2.2.1 X射线衍射的基本原理 | 第42-43页 |
2.2.2 光电子能谱的基本原理 | 第43-45页 |
2.2.3 漫反射吸收光谱的基本原理 | 第45-46页 |
2.2.4 原子力显微镜的基本原理 | 第46-48页 |
2.3 光催化性能评价体系 | 第48-49页 |
2.4 光电化学性能评价体系 | 第49-51页 |
2.4.1 光电化学性能评价装置 | 第49-50页 |
2.4.2 光电化学性能评价方法 | 第50-51页 |
2.5 理论计算 | 第51-52页 |
参考文献 | 第52-54页 |
第三章 金红石相TiO_2(001)、(100)和(110)面光催化性能研究 | 第54-68页 |
3.1 引言 | 第54-56页 |
3.2 实验部分 | 第56-57页 |
3.2.1 样品制备 | 第56页 |
3.2.2 样品表征 | 第56-57页 |
3.3 结果与讨论 | 第57-66页 |
本章小结 | 第66页 |
参考文献 | 第66-68页 |
第四章 铁电自发极化对LiNbO_3光催化性能影响 | 第68-78页 |
4.1 引言 | 第68-70页 |
4.2 实验部分 | 第70-71页 |
4.2.1 样品制备 | 第70页 |
4.2.2 样品表征 | 第70-71页 |
4.3 结果与讨论 | 第71-75页 |
本章小结 | 第75页 |
参考文献 | 第75-78页 |
结论与展望 | 第78-80页 |
攻读硕士学位期间学术成果 | 第80-82页 |
致谢 | 第82-84页 |