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分子/铁磁界面自旋极化界面构型效应研究

中文摘要第1-7页
ABSTRACT第7-10页
第一章 绪论第10-26页
   ·有机自旋电子学简介第10-11页
   ·有机自旋器件第11-17页
     ·有机自旋阀第11-16页
     ·有机磁体器件第16-17页
   ·有机铁磁界面第17-19页
   ·拟开展的研究内容第19-21页
 参考文献第21-26页
第二章 有机铁磁界面自旋极化理论方法第26-32页
   ·密度泛函理论第26-30页
     ·Born-Oppenheimer近似第26-27页
     ·Hohenberg-Kohn定理第27-28页
     ·Kohn-Sham方程第28-30页
   ·SIESTA软件方法第30-31页
 参考文献第31-32页
第三章 界面接触构型对界面自旋极化的影响第32-44页
   ·引言第32-33页
   ·模型及计算方法第33-34页
   ·结果与讨论第34-39页
   ·小结第39-41页
 参考文献第41-44页
第四章 界面夹角对界面自旋极化的影响第44-54页
   ·引言第44-45页
   ·模型与计算方法第45-46页
   ·结果与讨论第46-50页
   ·小结第50-51页
 参考文献第51-54页
第五章 总结与展望第54-56页
   ·本文工作总结第54-55页
   ·工作展望第55-56页
硕士期间发表论文目录第56-57页
攻读硕士期间参与课题第57-58页
致谢第58页

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