摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-9页 |
第一章 绪论 | 第9-30页 |
·引言 | 第9页 |
·聚集导致发光淬灭现象与聚集诱导发光现象 | 第9-10页 |
·聚集导致发光淬灭现象 | 第9-10页 |
·聚集诱导发光现象 | 第10页 |
·AIE发光效应机制 | 第10-21页 |
·分子内旋转受限机制(RIR) | 第10-16页 |
·分子内振动受限机制(RIV) | 第16-19页 |
·分子内运动受限机制 (RIM) | 第19-21页 |
·AIE材料研究的进展 | 第21-30页 |
·碳氢结构AIE体系 | 第21-24页 |
·含杂原子的AIE体系 | 第24-27页 |
·具有氢键作用的AIE体系 | 第27-28页 |
·聚合物AIE体系 | 第28-30页 |
第二章 基于四苯乙烯修饰的邻葵硼烷有机荧光材料的合成、表征及应用 | 第30-45页 |
·引言 | 第30页 |
·实验部分 | 第30-34页 |
·材料与设备 | 第30-32页 |
·合成路线 | 第32-34页 |
·结果与讨论 | 第34-44页 |
·热力学性能 | 第34-35页 |
·光物理性质 | 第35-37页 |
·AIE效应 | 第37-39页 |
·时间分辨荧光衰减 | 第39-40页 |
·理论计算 | 第40页 |
·电化学性质 | 第40-42页 |
·AIE材料在刺激响应领域应用的研究 | 第42-44页 |
·本章小结 | 第44-45页 |
第三章 基于联萘酚修饰的邻葵硼烷有机荧光材料的合成、表征 | 第45-57页 |
·引言 | 第45页 |
·实验部分 | 第45-48页 |
·设备与药品 | 第45-46页 |
·合成路线 | 第46-48页 |
·结果与讨论 | 第48-55页 |
·热力学性能 | 第48-49页 |
·光物理性质 | 第49-51页 |
·AIE效应 | 第51-54页 |
·理论计算 | 第54-55页 |
·电化学性质 | 第55页 |
·本章小结 | 第55-57页 |
第四章 基于希夫碱骨架的硼类手性共轭高分子的合成和表征 | 第57-65页 |
·引言 | 第57页 |
·实验部分 | 第57-61页 |
·材料与设备 | 第57-59页 |
·合成路线 | 第59-61页 |
·结果与讨论 | 第61-64页 |
·热力学性能 | 第61-62页 |
·光物理性质 | 第62-63页 |
·理论计算 | 第63-64页 |
·电化学性质 | 第64页 |
·本章小结 | 第64-65页 |
第五章 总结与展望 | 第65-67页 |
参考文献 | 第67-73页 |
附录1 部分化合物的核磁和质谱 | 第73-85页 |
附录2 攻读硕士学位期间撰写的论文 | 第85-86页 |
附录3 攻读硕士学位期间申请的专利 | 第86-87页 |
附录4 攻读硕士学位期间参加的科研项目 | 第87-88页 |
致谢 | 第88页 |