石墨烯器件的原子层沉积技术制备及电输运性能研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| abstract | 第5-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-30页 |
| ·引言 | 第12-13页 |
| ·石墨烯制备及性能 | 第13-15页 |
| ·石墨烯的制备方法 | 第13-14页 |
| ·石墨烯性能研究 | 第14-15页 |
| ·石墨烯掺杂 | 第15-19页 |
| ·石墨烯器件 | 第19-28页 |
| ·石墨烯晶体管器件 | 第19-20页 |
| ·其它器件 | 第20-22页 |
| ·器件介电层制备技术 | 第22-28页 |
| ·本论文的研究意义、研究方法和结果 | 第28-30页 |
| 第二章 石墨烯器件制备和掺杂 | 第30-41页 |
| ·引言 | 第30页 |
| ·石墨烯的CVD生长 | 第30-34页 |
| ·抛光铜片 | 第30-31页 |
| ·CVD生长石墨烯 | 第31-33页 |
| ·生长后石墨烯质量的表征 | 第33-34页 |
| ·转移石墨烯及其器件制备 | 第34-36页 |
| ·转移石墨烯至玻璃或载玻片上 | 第34-35页 |
| ·石墨烯液栅晶体管器件制备 | 第35-36页 |
| ·聚乙烯亚胺（PEI）掺杂石墨烯 | 第36-38页 |
| ·石墨烯的霍尔效应 | 第38-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 第三章 原子层沉积辅助制备石墨烯器件 | 第41-56页 |
| ·引言 | 第41页 |
| ·ALD沉积原理 | 第41-43页 |
| ·ALD沉积Al2O3薄膜到石墨烯上 | 第43-49页 |
| ·沉积前准备 | 第43-44页 |
| ·沉积Al2O3薄膜 | 第44-48页 |
| ·臭氧辅助沉积Al2O3薄膜 | 第48-49页 |
| ·不同基底的石墨烯晶体管器件的性能研究 | 第49-55页 |
| ·基底作用 | 第49-51页 |
| ·实验部分 | 第51-55页 |
| ·总结 | 第55-56页 |
| 第四章 石墨烯高温性能研究 | 第56-65页 |
| ·引言 | 第56页 |
| ·石墨烯的变温实验 | 第56-59页 |
| ·ALD沉积Al2O3高温保护BN | 第59-62页 |
| ·石墨烯的高温保护实验 | 第62-64页 |
| ·总结 | 第64-65页 |
| 第五章 总结和展望 | 第65-67页 |
| ·本文工作总结 | 第65-66页 |
| ·后续工作展望 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-76页 |
| 致谢 | 第76-77页 |
| 硕士期间论文发表（录用）情况 | 第77页 |
