离子束溅射氧化物薄膜的中红外特性研究
| 致谢 | 第1-5页 |
| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-15页 |
| ·课题研究背景及意义 | 第9-10页 |
| ·国内外发展现状 | 第10-11页 |
| ·离子束溅射沉积技术 | 第11-14页 |
| ·基本原理及结构 | 第11-12页 |
| ·工艺参数对薄膜性能的影响 | 第12-13页 |
| ·离子束溅射技术的优缺点 | 第13-14页 |
| ·论文的主要研究内容及研究思路 | 第14-15页 |
| 第2章 单层氧化物薄膜的制备及其特性研究 | 第15-28页 |
| ·常用氧化物薄膜材料的性能 | 第15-17页 |
| ·离子束溅射氧化物薄膜的制备 | 第17-18页 |
| ·薄膜的中红外光学特性 | 第18-19页 |
| ·薄膜的表面粗糙度及表面散射 | 第19-21页 |
| ·原子力显微镜工作原理 | 第19-20页 |
| ·薄膜的表面微观形貌及总积分散射 | 第20-21页 |
| ·薄膜的应力特性 | 第21-23页 |
| ·薄膜应力的测量方法 | 第21-22页 |
| ·离子束溅射氧化物薄膜的应力 | 第22-23页 |
| ·退火对薄膜光学特性及水吸收的影响 | 第23-24页 |
| ·薄膜的环境稳定性 | 第24-27页 |
| ·本章小结 | 第27-28页 |
| 第3章 中红外波段薄膜光学常数计算方法 | 第28-41页 |
| ·获取薄膜光学常数的常用方法 | 第28-29页 |
| ·透射率包络法 | 第28-29页 |
| ·多波长数值反演法 | 第29页 |
| ·基于K-K关系的光学常数计算方法 | 第29页 |
| ·存在的问题 | 第29-31页 |
| ·改善的光学常数计算方法 | 第31-40页 |
| ·数学模型及推导 | 第32-34页 |
| ·光学常数的计算步骤 | 第34-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 第4章 中红外高反射膜的制备 | 第41-52页 |
| ·高反膜设计的理论基础 | 第41-42页 |
| ·薄膜材料的选择 | 第42-43页 |
| ·2.7μm和 3.8μm高反膜的设计及制备 | 第43-47页 |
| ·膜系的设计 | 第43-44页 |
| ·薄膜的制备及特性测试 | 第44-46页 |
| ·退火对薄膜光学性能的影响 | 第46-47页 |
| ·高反膜中膜层厚度不匹配问题的探讨 | 第47-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 第5章 总结与展望 | 第52-54页 |
| ·论文主要研究工作及成果 | 第52页 |
| ·论文的创新点 | 第52-53页 |
| ·论文的不足及对后续工作的展望 | 第53-54页 |
| ·本论文的不足之处 | 第53页 |
| ·对后续工作的建议和展望 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-58页 |
| 作者简介及在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第58页 |
