摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-9页 |
第一章 绪论 | 第9-21页 |
·引言 | 第9页 |
·半导体量子点的概述 | 第9-11页 |
·定义及其基本特性 | 第9-10页 |
·发光原理及其光学特质 | 第10-11页 |
·疏水性量子点的合成方法概述 | 第11-13页 |
·量子点在基质中的分散研究 | 第13-18页 |
·量子点薄膜的制备及其研究进展 | 第13-14页 |
·量子点凝胶玻璃的制备及其研究进展 | 第14-16页 |
·二氧化硅荧光纳米球的制备及其研究进展 | 第16-18页 |
·疏水性量子点的二氧化硅表面修饰 | 第18-20页 |
·论文选题和设计思路 | 第20-21页 |
第二章 疏水性量子点的二氧化硅表面修饰及其机制初步探究 | 第21-35页 |
·引言 | 第21页 |
·实验部分 | 第21-24页 |
·仪器与试剂 | 第21-22页 |
·核壳结构的Cd Se/Cd Zn S QDs的制备 | 第22-23页 |
·二氧化硅表面修饰过程 | 第23-24页 |
·性能表征 | 第24页 |
·结果与讨论 | 第24-34页 |
·TEOS修饰的疏水性QDs | 第24-29页 |
·MPS修饰的疏水性QDs | 第29-33页 |
·APS修饰疏水性的QDs | 第33-34页 |
·本章小结 | 第34-35页 |
第三章 表面修饰后的量子点荧光薄膜的制备及其性能研究 | 第35-48页 |
·引言 | 第35页 |
·实验部分 | 第35-37页 |
·TEOS修饰的QDs制备荧光多层薄膜 | 第35-36页 |
·MPS修饰的QDs制备荧光多层薄膜 | 第36页 |
·表征和测试 | 第36-37页 |
·结果与讨论 | 第37-47页 |
·TEOS修饰的QDs制备荧光多层薄膜 | 第37-44页 |
·MPS修饰的QDs制备荧光多层薄膜 | 第44-47页 |
·本章小结 | 第47-48页 |
第四章 表面修饰后的量子点荧光凝胶玻璃的制备及其性能研究 | 第48-58页 |
·引言 | 第48页 |
·实验部分 | 第48-49页 |
·制备SiO_2-QDs的荧光凝胶玻璃 | 第48-49页 |
·SiO_2-QDs的荧光凝胶玻璃的热处理 | 第49页 |
·测试与表征 | 第49页 |
·结果与讨论 | 第49-56页 |
·合成方法及SiO_2-QDs荧光凝胶玻璃的制备机理 | 第49-50页 |
·不同晶体结构的QDs制备的凝胶玻璃 | 第50-56页 |
·本章小结 | 第56-58页 |
第五章 表面修饰后的量子点荧光纳米球的制备及其性能研究 | 第58-68页 |
·引言 | 第58页 |
·实验部分 | 第58-59页 |
·实验过程 | 第58-59页 |
·测试和表征 | 第59页 |
·结果与讨论 | 第59-67页 |
·合成方法 | 第59-60页 |
·不同荧光波长的二氧化硅荧光纳米球的光谱特征 | 第60-67页 |
·本章小结 | 第67-68页 |
第六章 结论 | 第68-70页 |
参考文献 | 第70-76页 |
发表论文和科研情况说明 | 第76-77页 |
致谢 | 第77-78页 |