| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-22页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·金属薄膜制备及表征技术 | 第10-13页 |
| ·金属薄膜制备方法 | 第10-11页 |
| ·金属薄膜表征技术 | 第11-13页 |
| ·金属薄膜成份表征方法 | 第11-12页 |
| ·金属薄膜结构表征方法 | 第12页 |
| ·金属薄膜物理性质表征方法 | 第12-13页 |
| ·脉冲激光气相沉积(PLD)制备金属薄膜研究现状 | 第13-16页 |
| ·脉冲激光气相沉积简介 | 第13-16页 |
| ·脉冲激光气相沉积制备金属薄膜研究现状 | 第16页 |
| ·金属锆薄膜研究现状 | 第16-20页 |
| ·金属氢化物体系 | 第16-19页 |
| ·锆薄膜制备及氢化研究 | 第19-20页 |
| ·锆薄膜制备表征现状 | 第19页 |
| ·锆薄膜与氢作用研究现状 | 第19-20页 |
| ·论文选题依据及论文主要研究内容 | 第20-22页 |
| 第2章 Zr/Si(100)薄膜的制备及性能研究 | 第22-55页 |
| ·引言 | 第22-23页 |
| ·实验内容 | 第23-24页 |
| ·薄膜制备设备参数及原料 | 第23-24页 |
| ·靶材处理与检测设备 | 第24页 |
| ·结果与讨论 | 第24-53页 |
| ·脉冲激光频率对沉积在Si(100)衬底上锆薄膜及性能影响 | 第24-34页 |
| ·锆薄膜的物相结构、表面形貌 | 第25-28页 |
| ·脉冲激光频率对锆薄膜表面液滴数目、液滴尺寸的影响 | 第28-32页 |
| ·脉冲激光频率对锆薄膜沉积速率的影响 | 第32-34页 |
| ·脉冲激光能量密度对沉积在Si(100)衬底上锆薄膜形貌、结构影响 | 第34-42页 |
| ·锆薄膜的物相结构、表面形貌 | 第35-38页 |
| ·脉冲激光能量密度对锆薄膜表面液滴数目、液滴尺寸的影响 | 第38-41页 |
| ·脉冲激光能量密度对锆薄膜沉积速率的影响 | 第41-42页 |
| ·衬底温度对沉积在Si(100)衬底上锆薄膜形貌、结构影响 | 第42-53页 |
| ·锆薄膜的物相结构、表面形貌、液滴分布 | 第42-47页 |
| ·Zr/Si(100)界面处锆硅化合物的生成 | 第47-53页 |
| ·本章小结 | 第53-55页 |
| 第3章 Zr/Mo薄膜的制备及性能研究 | 第55-61页 |
| ·引言 | 第55页 |
| ·实验内容 | 第55页 |
| ·结果与讨论 | 第55-60页 |
| ·锆薄膜表面液滴数目、尺寸分布 | 第55-57页 |
| ·锆薄膜表面形貌、平均纳米颗粒尺寸 | 第57-60页 |
| ·本章小结 | 第60-61页 |
| 第4章 Zr/Al_2O_3(0001)薄膜的制备及性能研究 | 第61-67页 |
| ·引言 | 第61页 |
| ·实验内容 | 第61页 |
| ·结果与讨论 | 第61-65页 |
| ·锆薄膜物相结构、表面形貌 | 第61-64页 |
| ·锆薄膜的光学性质 | 第64-65页 |
| ·本章小结 | 第65-67页 |
| 第5章 氘化锆薄膜的制备及表征 | 第67-77页 |
| ·引言 | 第67页 |
| ·实验内容 | 第67-68页 |
| ·结果与讨论 | 第68-76页 |
| ·Si(100)基氘化锆的物相结构、形貌特征 | 第68-71页 |
| ·Al_2O_3(0001)基氘化锆的形貌表征 | 第71-76页 |
| ·氚化锆薄膜物相结构、表面形貌 | 第71-74页 |
| ·氘化锆薄膜电学、光学性质 | 第74-76页 |
| ·本章小结 | 第76-77页 |
| 第6章 本文总结及后续研究设计 | 第77-79页 |
| ·全文总结 | 第77-78页 |
| ·后续研究展望 | 第78-79页 |
| 致谢 | 第79-80页 |
| 参考文献 | 第80-86页 |
| 附录 攻读硕士学位期间公开发表的科研论文及参加的学术交流活动 | 第86页 |
