溶剂热法合成BiVO4晶体及光催化性能的研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-21页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·半导体光催化技术 | 第9-12页 |
| ·半导体光催化原理 | 第9-11页 |
| ·半导体光催化技术的应用 | 第11-12页 |
| ·TiO_2光催化剂优缺点 | 第12页 |
| ·BiVO_4半导体光催化剂 | 第12-16页 |
| ·BiVO_4的结构 | 第12-14页 |
| ·BiVO_4的制备方法 | 第14-16页 |
| ·溶剂热技术 | 第16-18页 |
| ·溶剂热方法 | 第16页 |
| ·溶剂热法的发展 | 第16-17页 |
| ·界面相转移 | 第17-18页 |
| ·本论文的主要意义和内容 | 第18-21页 |
| 第二章 溶剂热法制备光催化剂原理及实验设计 | 第21-27页 |
| ·溶剂热法 | 第21页 |
| ·溶剂热法合成纳米材料影响因素 | 第21-24页 |
| ·溶剂 | 第21-23页 |
| ·温度 | 第23页 |
| ·时间 | 第23页 |
| ·表面活性剂 | 第23-24页 |
| ·溶剂热法制备光催化剂实验设计 | 第24-25页 |
| ·小结 | 第25-27页 |
| 第三章 实验条件和材料表征方法原理 | 第27-33页 |
| ·实验条件 | 第27-28页 |
| ·材料的表征方法和原理 | 第28-32页 |
| ·X 射线荧光光谱分析（XRF） | 第28-29页 |
| ·X 射线衍射分析（XRD） | 第29页 |
| ·场发射扫描电镜（FESEM） | 第29-30页 |
| ·紫外可见分光光度计 | 第30-31页 |
| ·光催化反应装置 | 第31-32页 |
| ·小结 | 第32-33页 |
| 第四章 实验部分 | 第33-55页 |
| ·溶剂热法合成 BiVO_4 | 第33-39页 |
| ·工艺流程 | 第33-34页 |
| ·合成过程 | 第34-39页 |
| ·溶剂热反应影响因素系列实验 | 第39-52页 |
| ·热处理温度 | 第39-44页 |
| ·热处理时间 | 第44-47页 |
| ·表面活性剂 | 第47-52页 |
| ·补充实验 | 第52-54页 |
| ·小结 | 第54-55页 |
| 第五章 结论和展望 | 第55-59页 |
| ·结论 | 第55-56页 |
| ·展望 | 第56-59页 |
| 致谢 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-67页 |
| 硕士在读期间发表论文情况 | 第67-68页 |
