| 致谢 | 第1-5页 |
| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-12页 |
| 第1章 绪论 | 第12-25页 |
| ·微纳光学介绍 | 第12-13页 |
| ·衍射极限及其对光学器件分辨力的限制 | 第13-14页 |
| ·超分辨技术发展简介 | 第14-23页 |
| ·完美透镜概念的提出 | 第14-15页 |
| ·平面超透镜 | 第15-17页 |
| ·曲面超透镜 | 第17-19页 |
| ·近场波带片 | 第19-20页 |
| ·超聚焦光栅 | 第20-21页 |
| ·基于异常色散材料的人工透镜 | 第21-22页 |
| ·利用等离子体波导阵列的深度亚波长聚焦 | 第22-23页 |
| ·本论文主要内容及章节安排 | 第23-25页 |
| 第2章 多层金属-电介质纳米薄膜结构的基础光学性质 | 第25-41页 |
| ·表面等离子体介绍 | 第25-26页 |
| ·多层金属-电介质纳米薄膜结构 | 第26-33页 |
| ·多层金属-介质薄膜结构的色散特性 | 第27-29页 |
| ·多层金属-电介质薄膜结构的传输特性 | 第29-31页 |
| ·多层金属-电介质薄膜结构与等效介质的差异 | 第31-33页 |
| ·电磁场的数值模拟方法 | 第33-40页 |
| ·有限元法 | 第34页 |
| ·时域差分有限法 | 第34-36页 |
| ·严格耦合波分析方法 | 第36-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 第3章 基于多层金属-电介质薄膜的单缝菲涅尔超聚焦元件 | 第41-53页 |
| ·光在超衍射材料中的传播 | 第41-42页 |
| ·元件设计与原理 | 第42-45页 |
| ·数值模拟结果 | 第45-46页 |
| ·结构参数对分辨力的影响分析 | 第46-48页 |
| ·不同材料结构下焦斑大小与波长比值δ/λ0和狭缝宽度 W 关系 | 第46-47页 |
| ·材料损耗的影响 | 第47-48页 |
| ·菲涅尔半波带数的限制 | 第48页 |
| ·实验设计及实验结果分析 | 第48-51页 |
| ·实验结构设计 | 第48-49页 |
| ·实验结构理论模拟及相关参数分析 | 第49-50页 |
| ·实验结果及讨论 | 第50-51页 |
| ·三维菲涅尔超聚焦元件 | 第51-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 第4章 多缝超分辨聚焦元件设计及其离轴照明下的聚焦特性 | 第53-70页 |
| ·多缝超聚焦元件设计及原理 | 第53-55页 |
| ·数值模拟结果讨论 | 第55-57页 |
| ·相对传统菲涅尔聚焦透镜的优势 | 第57-60页 |
| ·多缝超衍射聚焦元件在离轴照明下的聚焦特性分析 | 第60-68页 |
| ·基本聚焦结构的离轴照明分析原理 | 第61-64页 |
| ·多个纳米狭缝在人工电磁材料中的离轴聚焦行为 | 第64-66页 |
| ·减小离轴聚焦像差的条件 | 第66-68页 |
| ·本章小结 | 第68-70页 |
| 第5章 基于表面等离子体反射银膜的 hyperlens 缩小成像 | 第70-86页 |
| ·Hyperlens 原理介绍 | 第70-71页 |
| ·光的极化性对 hyperlens 缩小成像分辨力的影响 | 第71-73页 |
| ·柱面等离子体反射层对 hyperlens 成像的影响 | 第73-75页 |
| ·Hyperlens-光刻胶-PRL 光刻器件的实现 | 第75-76页 |
| ·带有等离子体反射层的三维 hyperlens | 第76-77页 |
| ·带有等离子体反射层的 hyperlens 成像性能 | 第77-80页 |
| ·单缝物体的成像性能分析 | 第77-78页 |
| ·缝间距和缩小倍率变化下的成像质量 | 第78-79页 |
| ·光刻胶厚度和等离子体反射层厚度的影响 | 第79-80页 |
| ·等离子体反射层对平面多层膜成像效果的影响 | 第80-85页 |
| ·高数值孔径物镜的聚焦焦斑模拟 | 第80-81页 |
| ·平面多层膜对聚焦焦斑的成像模拟 | 第81-83页 |
| ·焦斑纵向移动时的成像分析 | 第83-85页 |
| ·多个焦斑的非相干成像分析 | 第85页 |
| ·本章小结 | 第85-86页 |
| 第6章 结束语 | 第86-88页 |
| ·论文的主要创新点 | 第86-87页 |
| ·未来工作展望 | 第87-88页 |
| 参考文献 | 第88-94页 |
| 作者简介及在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第94页 |
