| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-13页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·AAO模板的应用 | 第9-12页 |
| ·磁学方面 | 第9-10页 |
| ·光学方面 | 第10页 |
| ·在场发射和电致发光器件上的应用 | 第10-12页 |
| ·在传感方面的应用 | 第12页 |
| ·在催化领域的应用 | 第12页 |
| ·影响AAO模板的因素 | 第12-13页 |
| 第二章 多孔氧化铝模板的制备和表征 | 第13-22页 |
| ·引言 | 第13页 |
| ·多孔氧化铝模板的制备过程 | 第13-16页 |
| ·试剂和仪器 | 第13-14页 |
| ·模板预处理 | 第14页 |
| ·二次氧化过程 | 第14-16页 |
| ·AAO模板的缺陷 | 第16-18页 |
| ·磷酸对AAO模板扩孔研究 | 第18-19页 |
| ·影响AAO模板孔径的因素 | 第19-21页 |
| ·本章小结 | 第21-22页 |
| 第三章 电化学沉积研究Co、Ni、Cu纳米线生长速率 | 第22-38页 |
| ·Ni、Co纳米线的研究进展 | 第22页 |
| ·影响Co纳米线生长取向的因素 | 第22-25页 |
| ·沉积电压对Co纳米线生长取向的影响 | 第22-23页 |
| ·电解液的pH对Co纳米线生长取向的影响 | 第23-24页 |
| ·磁场对Co纳米线生长取向的影响 | 第24-25页 |
| ·电化学研究Co纳米线生长速率 | 第25-26页 |
| ·电化学沉积Co纳米线过程 | 第26-30页 |
| ·试剂和仪器 | 第26-27页 |
| ·恒电位极化沉积Co纳米线 | 第27页 |
| ·不同点位下Co纳米线的XRD表征 | 第27-28页 |
| ·Co纳米线的SEM、TEM表征 | 第28页 |
| ·不同电位下Co纳米线生长电流变化 | 第28-30页 |
| ·电化学沉积Ni纳米线过程 | 第30-33页 |
| ·不同电位下Ni纳米线生长电流变化 | 第30-31页 |
| ·Ni纳米线的SEM、XRD表征 | 第31-33页 |
| ·电化学沉积Cu纳米线 | 第33-35页 |
| ·不同电位下Cu纳米线生长电流变化 | 第33-34页 |
| ·Cu纳米线的XRD、SEM表征 | 第34-35页 |
| ·Co、Ni、Cu电流大小比较 | 第35-37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 第四章 纳米线生长速率机理研究 | 第38-44页 |
| ·电沉积生长纳米线原理与过程 | 第38-39页 |
| ·量子隧道理论 | 第39-41页 |
| ·固体电子结构 | 第39页 |
| ·隧道效应 | 第39-41页 |
| ·隧道电流的大小 | 第41页 |
| ·半定量分析金属(Co、Ni、Cu)纳米线生长速率 | 第41-44页 |
| 第五章 总结与展望 | 第44-46页 |
| ·论文总结 | 第44页 |
| ·工作展望 | 第44-46页 |
| 参考文献 | 第46-50页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第50-51页 |
| 致谢 | 第51页 |