| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 1 绪论 | 第8-20页 |
| ·课题来源及意义 | 第8-9页 |
| ·课题来源 | 第8页 |
| ·课题的研究意义 | 第8-9页 |
| ·磁流变液 | 第9-11页 |
| ·磁流变液的流变特性分析 | 第9-10页 |
| ·磁流变液的分类及应用 | 第10-11页 |
| ·磁流变抛光液的研究现状 | 第11-15页 |
| ·国外磁流变抛光液研究现状 | 第11-13页 |
| ·国内磁流变抛光液研究现状 | 第13-14页 |
| ·常见的磁流变抛光液的分析 | 第14-15页 |
| ·磁流变液工艺应用的抛光装置介绍 | 第15-18页 |
| ·本论文主要研究内容和章节安排 | 第18-20页 |
| ·本文主要研究内容 | 第18页 |
| ·本文的章节安排 | 第18-20页 |
| 2 研究方案及非水基磁流变抛光液的配制方法探究 | 第20-26页 |
| ·非水基磁流变抛光液及抛光工艺研究的技术路线 | 第20页 |
| ·非水基磁流变抛光液的配制方法探究 | 第20-22页 |
| ·常见的磁流变抛光液配制工艺研究 | 第20-21页 |
| ·非水基磁流变抛光液配制方法研究 | 第21-22页 |
| ·非水基磁流变抛光液用于工艺的抛光工件研究 | 第22-25页 |
| ·K9玻璃的粗磨工艺 | 第23-24页 |
| ·K9玻璃的精磨工艺 | 第24-25页 |
| ·本章小结 | 第25-26页 |
| 3 非水基磁流变抛光液的制备与测试 | 第26-41页 |
| ·磁流变抛光液 | 第26-29页 |
| ·磁流变抛光液的组成 | 第26-28页 |
| ·磁流变抛光液的抛光颗粒 | 第28-29页 |
| ·非水基磁流变抛光液配制 | 第29-33页 |
| ·非水基磁流变抛光液配制研究 | 第29页 |
| ·非水基磁流变抛光液性能指标的确定 | 第29-30页 |
| ·非水基磁流变抛光液各组分材料的选取 | 第30-32页 |
| ·非水基磁流变液的配制工艺 | 第32-33页 |
| ·非水基磁流变抛光液的基本性能测试 | 第33-39页 |
| ·非水基磁流变抛光液的粘度测试 | 第33-35页 |
| ·非水基磁流变抛光液的沉降速率测试 | 第35-39页 |
| ·非水基磁流变抛光液的去除特性研究 | 第39-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 4 非水基磁流变抛光液的抛光工艺实验研究 | 第41-64页 |
| ·非水基磁流变抛光液用于抛光工艺的实验条件 | 第41-47页 |
| ·工艺实验的理论条件 | 第41-43页 |
| ·工艺实验的技术条件 | 第43-45页 |
| ·工艺实验的工艺条件 | 第45-47页 |
| ·非水基磁流变抛光液抛光去除量工艺验证实验 | 第47-54页 |
| ·多因素正交实验法 | 第47-49页 |
| ·实验方案的设计 | 第49-50页 |
| ·磁流变抛光材料去除量实验结果的处理 | 第50-51页 |
| ·磁流变抛光材料去除量实验结果的分析 | 第51-54页 |
| ·非水基磁流变抛光液抛光K9玻璃的表面粗糙度的实验研究 | 第54-62页 |
| ·合理抛光时间的确定 | 第55页 |
| ·实验方案的设计 | 第55-57页 |
| ·磁流变抛光材料去除量实验结果的处理 | 第57-58页 |
| ·磁流变抛光的表面粗糙度实验结果的分析 | 第58-61页 |
| ·最优工艺参数组合下磁流变抛光表面粗糙度实验 | 第61-62页 |
| ·本章小结 | 第62-64页 |
| 5 结论 | 第64-66页 |
| ·主要结论 | 第64-65页 |
| ·后期工作展望 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-69页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70-72页 |