纳米压印光刻胶的设计、合成及性能
| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-34页 |
| ·纳米压印背景介绍 | 第13-14页 |
| ·纳米压印光刻技术原理与分类 | 第14-16页 |
| ·有机硅光刻胶用于紫外纳米压印 | 第16-27页 |
| ·光刻胶性能对纳米压印的影响 | 第16-17页 |
| ·有机硅紫外纳米压印光刻胶 | 第17-27页 |
| ·纳米压印构筑功能化表面 | 第27-29页 |
| ·纳米压印光刻技术中摩擦学 | 第29-32页 |
| ·论文研究目的和主要内容 | 第32-34页 |
| ·紫外纳米压印光刻胶研究现状 | 第32-33页 |
| ·研究内容 | 第33页 |
| ·课题创新点 | 第33-34页 |
| 第二章 实验部分 | 第34-41页 |
| ·实验原料与设备 | 第34-35页 |
| ·实验仪器 | 第35页 |
| ·紫外压印及图形转移 | 第35-36页 |
| ·测试与表征 | 第36-41页 |
| 第三章 结果与讨论 | 第41-70页 |
| ·MA0735 光刻胶体系性能测试及紫外纳米压印 | 第41-55页 |
| ·光刻胶的组成 | 第41-43页 |
| ·双官能团单体的选择 | 第43-50页 |
| ·MA0735 体系光刻胶的配制和性能测试 | 第50-55页 |
| ·压印与图案化 | 第55页 |
| ·MA-POSS 光刻胶的合成与表征 | 第55-65页 |
| ·MA-POSS 的合成 | 第55-59页 |
| ·MA-POSS 合成工艺条件的优化 | 第59-63页 |
| ·MA-POSS 光刻胶的制备与性能 | 第63-65页 |
| ·压印与图案化 | 第65页 |
| ·MA-F-POSS 光刻胶的合成与表征 | 第65-70页 |
| ·MA-F-POSS 的合成 | 第65-67页 |
| ·MA-F-POSS 低表面能光刻胶的制备与性能 | 第67-68页 |
| ·压印与图案化 | 第68-70页 |
| 总结与展望 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-75页 |
| 研究生期间发表论文（待发表） | 第75-76页 |
| 致谢 | 第76-77页 |
| 作者和导师简介 | 第77-78页 |
| 硕士研究生学位论文答辩委员会决议书 | 第78-79页 |
