| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-21页 |
| ·ITO 薄膜 | 第9-14页 |
| ·ITO 薄膜的结构特性 | 第10-12页 |
| ·ITO 薄膜的电学特性 | 第12-13页 |
| ·ITO 薄膜的光学特性 | 第13-14页 |
| ·ITO 薄膜的沉积方法 | 第14-17页 |
| ·ITO 薄膜研究现状 | 第17页 |
| ·本课题的研究目的、意义、主要内容和创新点 | 第17-19页 |
| ·研究目的和意义 | 第17-18页 |
| ·研究内容 | 第18-19页 |
| ·创新点 | 第19页 |
| ·本章小结 | 第19-21页 |
| 第二章 实验方法及表征手段 | 第21-29页 |
| ·电子束蒸发镀膜简介 | 第21-23页 |
| ·电子束蒸发基本原理及特性 | 第21-23页 |
| ·离子辅助电子束蒸发系统 | 第23页 |
| ·实验原材料及设备 | 第23-25页 |
| ·蒸发膜料 | 第23-24页 |
| ·镀膜基片 | 第24页 |
| ·薄膜沉积设备 | 第24-25页 |
| ·样品性能表征设备及方法 | 第25-27页 |
| ·分光光度计 | 第25页 |
| ·四探针测试仪 | 第25-26页 |
| ·X 射线衍射仪 | 第26页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第26-27页 |
| ·台阶仪 | 第27页 |
| ·本章小结 | 第27-29页 |
| 第三章 增透 ITO 导电膜设计理论基础 | 第29-35页 |
| ·光学薄膜特征矩阵 | 第29-31页 |
| ·增透膜减反射原理 | 第31-32页 |
| ·增透 ITO 导电膜设计思想 | 第32-33页 |
| ·本章小结 | 第33-35页 |
| 第四章 ITO 导电膜的制备及性能研究 | 第35-55页 |
| ·基板温度对 ITO 导电膜性能的影响 | 第35-41页 |
| ·沉积速率对 ITO 导电膜性能的影响 | 第41-46页 |
| ·充氧量对 ITO 薄膜性能的影响 | 第46-52页 |
| ·ITO 薄膜制备最佳工艺参数 | 第52页 |
| ·本章小结 | 第52-55页 |
| 第五章 球形玻璃基底表面 ITO 导电膜的研究 | 第55-73页 |
| ·球形基底表面膜厚分布理论计算 | 第55-61页 |
| ·平面基底表面膜厚分布 | 第55-57页 |
| ·蒸发源正上方球形基底表面膜厚分布计算 | 第57-59页 |
| ·行星式运动球形基底表面膜厚分布计算 | 第59-61页 |
| ·球形玻璃基底表面 ITO 导电膜的制备及均匀性研究 | 第61-70页 |
| ·球形玻璃基底表面 ITO 导电膜的制备 | 第62-63页 |
| ·球形玻璃基底表面 ITO 导电膜均匀性研究 | 第63-70页 |
| ·本章小结 | 第70-73页 |
| 第六章 球形玻璃基底表面增透 ITO 导电膜的研究 | 第73-85页 |
| ·增透 ITO 导电膜膜系设计 | 第73-79页 |
| ·设计用光学薄膜材料 | 第73页 |
| ·光学常数的提取 | 第73-76页 |
| ·膜系设计及计算光谱曲线 | 第76-79页 |
| ·球形玻璃基底表面增透 ITO 导电膜制备 | 第79-81页 |
| ·制备方案的确定 | 第79-80页 |
| ·增透 ITO 导电膜的制备 | 第80-81页 |
| ·球形玻璃基底表面增透 ITO 导电膜的光电性能 | 第81-83页 |
| ·球形玻璃基底表面增透 ITO 导电膜的电磁屏蔽效能 | 第83页 |
| ·本章小结 | 第83-85页 |
| 结论 | 第85-87页 |
| 参考文献 | 第87-91页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第91-93页 |
| 致谢 | 第93页 |
