| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-12页 |
| 第1章 绪论 | 第12-24页 |
| ·纳米晶材料的简介 | 第12页 |
| ·纳米晶金属材料的结构 | 第12-13页 |
| ·金属表面电子结构的特点 | 第13-16页 |
| ·费米能 EF及费米分布函数 F(E) | 第13-14页 |
| ·表面附近电荷密度分布 | 第14-15页 |
| ·结合能 | 第15页 |
| ·功函数 | 第15页 |
| ·纳米粒子的电子结构特点 | 第15-16页 |
| ·金属材料的高温氧化 | 第16-17页 |
| ·高温氧化机理简介 | 第16-17页 |
| ·内氧化和外氧化的转变 | 第17页 |
| ·纳米晶金属材料的高温氧化 | 第17页 |
| ·纳米材料的腐蚀性能 | 第17-19页 |
| ·实验原理与方法 | 第19-22页 |
| ·光电发射效应的基本原理 | 第19页 |
| ·X-射线光电子谱 | 第19-21页 |
| ·紫外线光电子谱 | 第21-22页 |
| ·课题研究 | 第22-24页 |
| ·课题的研究背景 | 第22-23页 |
| ·本课题研究的内容 | 第23-24页 |
| 第2章 纳米晶 304 不锈钢高温氧化光电子能谱表征 | 第24-49页 |
| ·实验材料与方法 | 第24-25页 |
| ·实验材料 | 第24页 |
| ·实验方法 | 第24-25页 |
| ·900℃ BN-SS304 和 CP-SS304 氧化膜的光电子能谱研究 | 第25-39页 |
| ·900℃ BN-SS304 和 CP-SS304 的 XPS 全谱 | 第25-27页 |
| ·900℃ BN-SS304 和 CP-SS304 氧化膜中 O1s、Cr2p3/和 Mn2p3/2 的XPS 谱研究 | 第27-35页 |
| ·900℃ BN-SS304 和 CP-SS304 氧化膜的 UPS 研究 | 第35-39页 |
| ·950℃ BN-SS304 和 CP-SS304 氧化膜的光电子能谱研究 | 第39-47页 |
| ·950℃ BN-SS304 和 CP-SS304 氧化膜的 XPS 全谱 | 第39-40页 |
| ·950℃ BN-SS304 和 CP-SS304 氧化膜中 O1s 和 Cr2p3/2 的 XPS 谱研究 | 第40-46页 |
| ·950℃ BN-SS304 和 CP-SS304 氧化膜的 UPS 研究 | 第46-47页 |
| ·本章小结 | 第47-49页 |
| 第3章 普通纯铝和纳米晶纯铝腐蚀形成氧化膜的光电子能谱表征 | 第49-60页 |
| ·实验方法 | 第49-50页 |
| ·BN-Al 和 CP-Al 腐蚀 9 d 的表面成份研究 | 第50页 |
| ·BN-Al 和 CP-Al 腐蚀 9 d 的表面 Al 元素的 XPS 研究 | 第50-54页 |
| ·BN-Al 和 CP-Al 在 HCl 中腐蚀 9d 后氧化膜表面 Cl 元素 XPS 研究 | 第54-56页 |
| ·BN-Al 和 CP-Al 的 UPS 研究 | 第56-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 第4章 纳米晶 304 不锈钢腐蚀形成氧化膜的光电子能谱表征 | 第60-76页 |
| ·试验方法 | 第60-61页 |
| ·BN-SS304 和 CP-SS304 在 HCl 中腐蚀 20d 后 XPS 全谱 | 第61-62页 |
| ·BN-SS304 和 CP-SS304 在 HCl 中腐蚀 20d 后 Ni 元素的 XPS | 第62-64页 |
| ·BN-SS304 和 CP-SS304 在 HCl 中腐蚀 20 d 后 Fe 元素的 XPS | 第64-69页 |
| ·BN-SS304 和 CP-SS304 在 HCl 中腐蚀 20 d 后 Cr 元素的 XPS | 第69-74页 |
| ·BN-SS304 和 CP-SS304 的 UPS | 第74-75页 |
| ·本章小结 | 第75-76页 |
| 参考文献 | 第76-82页 |
| 攻读硕士学位时期发表的论文和获得的科研成果 | 第82-83页 |
| 致谢 | 第83-84页 |
