摘要 | 第1-4页 |
ABSTRACT | 第4-8页 |
第一章 绪论 | 第8-19页 |
·等离子喷涂技术简介 | 第8-11页 |
·等离子喷涂原理 | 第8-9页 |
·等离子喷涂的特点和应用 | 第9-10页 |
·等离子喷涂涂层的结构 | 第10-11页 |
·等离子喷涂技术的展望 | 第11页 |
·碳化钨钴金属陶瓷涂层 | 第11-14页 |
·WC 的性质 | 第11-13页 |
·金属 Co 的性质 | 第13页 |
·热喷涂 WC-Co 陶瓷粉末的制备方法 | 第13-14页 |
·热喷涂 WC-Co 涂层的应用 | 第14页 |
·等离子喷涂 WC-Co 涂层的研究现状 | 第14-18页 |
·影响等离子喷涂 WC-Co 涂层性能的主要因素 | 第15-16页 |
·等离子喷涂 WC-Co 涂层的脱碳机理 | 第16-17页 |
·热喷涂 WC-Co 涂层性能的改善 | 第17-18页 |
·本课题的选题背景、意义及主要研究内容 | 第18-19页 |
第二章 实验条件及测试方法 | 第19-26页 |
·实验条件 | 第19-22页 |
·喷涂材料 | 第19-20页 |
·喷涂设备 | 第20页 |
·基体表面处理 | 第20-21页 |
·涂层的制备 | 第21页 |
·喷涂粉末和扁平粒子的收集 | 第21-22页 |
·样品的物相组成和微观结构分析 | 第22-25页 |
·金相试样的制备 | 第22页 |
·试样的物相组成分析 | 第22-23页 |
·涂层的晶化转变测定 | 第23页 |
·XPS 测定样品的表面价态 | 第23-24页 |
·样品的微观形貌分析 | 第24-25页 |
·涂层显微硬度的测定 | 第25-26页 |
第三章 喷涂过程中的物相反应和微观结构演变 | 第26-37页 |
·定性物相分析 | 第26-27页 |
·微观结构演变 | 第27-36页 |
·粒子在飞行过程中的行为变化 | 第27-29页 |
·粒子的扁平化过程 | 第29-32页 |
·扁平粒子堆积形成涂层 | 第32-36页 |
·本章小结 | 第36-37页 |
第四章 等离子喷涂 WC-Co 的脱碳机理和相变产物形成机制 | 第37-48页 |
·等离子喷涂 WC-Co 脱碳机理分析 | 第37-41页 |
·粒子表面 WC 颗粒的直接氧化分解 | 第37-39页 |
·粒子内部 WC 颗粒的脱碳分解 | 第39-41页 |
·液相中相变产物的沉淀析出 | 第41-47页 |
·理论分析 | 第42-43页 |
·W2C 和单质 W 的沉淀析出 | 第43-44页 |
·γ相和相的沉淀析出 | 第44-45页 |
·喷涂过程中脱碳产物的沉淀析出模型 | 第45-47页 |
·本章小结 | 第47-48页 |
第五章 等离子喷涂 WC-Co 脱碳程度的影响因素 | 第48-56页 |
·喷涂工艺参数的影响 | 第48-53页 |
·喷涂功率的影响 | 第48-50页 |
·喷涂距离的影响 | 第50-53页 |
·Co 的包覆对脱碳程度的影响 | 第53-55页 |
·本章小结 | 第55-56页 |
第六章 结论 | 第56-58页 |
参考文献 | 第58-63页 |
发表论文和参加科研情况说明 | 第63-64页 |
致谢 | 第64页 |