| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-27页 |
| ·引言 | 第13-16页 |
| ·钨酸铅晶体的研究现状 | 第16-24页 |
| ·钨酸铅晶体的基本特性 | 第16-19页 |
| ·钨酸铅晶体结构性质 | 第16页 |
| ·透过率 | 第16-17页 |
| ·发光机制 | 第17页 |
| ·光产额及衰减时间 | 第17-19页 |
| ·钨酸铅晶体缺陷 | 第19-20页 |
| ·钨酸铅晶体开裂 | 第19页 |
| ·PWO 晶体的着色 | 第19-20页 |
| ·钨酸铅晶体的生长方法 | 第20-24页 |
| ·提拉法（Czochralski） | 第20-21页 |
| ·坩埚下降法（Bridgman） | 第21-22页 |
| ·垂直梯度凝固法（VGF） | 第22-24页 |
| ·本论文的研究目的、意义及内容 | 第24-27页 |
| ·本论文研究的目的、意义 | 第24页 |
| ·本论文研究内容 | 第24-27页 |
| 第二章 实验方法及测试表征 | 第27-37页 |
| ·钨酸铅晶体的生长 | 第27-31页 |
| ·坩埚下降法生长钨酸铅晶体 | 第27-29页 |
| ·钨酸铅晶体坩埚下降法生长装置 | 第27页 |
| ·钨酸铅晶体坩埚下降法生长工艺 | 第27-29页 |
| ·垂直梯度凝固法（VGF）生长钨酸铅晶体 | 第29-31页 |
| ·钨酸铅晶体垂直梯度凝固法（VGF）生长装置 | 第29-30页 |
| ·钨酸铅晶体垂直梯度凝固法（VGF）生长工艺 | 第30-31页 |
| ·掺杂钨酸铅晶体的生长研究 | 第31页 |
| ·钨酸铅晶体退火实验 | 第31-32页 |
| ·钨酸铅晶体退火实验装置 | 第31-32页 |
| ·钨酸铅晶体退火工艺 | 第32页 |
| ·钨酸铅晶体离子扩散实验 | 第32-33页 |
| ·钨酸铅晶体离子扩散实验装置 | 第32-33页 |
| ·钨酸铅晶体离子扩散工艺 | 第33页 |
| ·钨酸铅微晶的合成及性能研究 | 第33-35页 |
| ·钨酸铅微晶合成原料 | 第33-34页 |
| ·钨酸铅微晶合成工艺 | 第34-35页 |
| ·钨酸铅晶体样品的制备 | 第35页 |
| ·XRD 测试用样品 | 第35页 |
| ·光学性能测试用样品 | 第35页 |
| ·扫描电镜测试用样品 | 第35页 |
| ·测试分析方法 | 第35-37页 |
| ·X-射线衍射 | 第35-36页 |
| ·晶体吸收、透过光谱 | 第36页 |
| ·晶体荧光光谱 | 第36页 |
| ·光产额（LY）、衰减时间测试 | 第36页 |
| ·微晶形貌、组成测试 | 第36-37页 |
| 第三章 钨酸铅晶体的生长及光学性能研究 | 第37-51页 |
| ·下降法钨酸铅单晶的生长及光学性能研究 | 第37-41页 |
| ·下降法钨酸铅单晶的生长 | 第37页 |
| ·下降法生长钨酸铅晶体光学性能分析测试 | 第37-41页 |
| ·下降法生长钨酸铅单晶 XRD 分析 | 第37-38页 |
| ·下降法生长钨酸铅单晶透过光谱 | 第38-39页 |
| ·下降法生长钨酸铅单晶荧光光谱 | 第39-40页 |
| ·下降法生长钨酸铅单晶光产额性能 | 第40页 |
| ·下降法生长钨酸铅单晶衰减时间性能 | 第40-41页 |
| ·下降法(F-,Y~(3+)):PWO 晶体的生长及光学性能研究 | 第41-45页 |
| ·下降法(F-,Y~(3+)):PWO 晶体的生长 | 第41页 |
| ·下降法生长(F-,Y~(3+)):PWO 晶体光学性能分析测试 | 第41-45页 |
| ·下降法生长(F‐,Y~(3+)):PWO 晶体 XRD 分析 | 第41-42页 |
| ·下降法生长(F‐,Y~(3+)):PWO 晶体透射光谱 | 第42页 |
| ·下降法生长(F‐,Y~(3+)):PWO 晶体荧光光谱 | 第42-43页 |
| ·下降法生长(F‐,Y~(3+)):PWO 晶体光产额性能 | 第43-44页 |
| ·下降法生长(F‐,Y~(3+)):PWO 晶体衰减时间性能 | 第44-45页 |
| ·垂直梯度凝固法(F-,Y~(3+)):PWO 晶体的生长及光学性能研究 | 第45-49页 |
| ·垂直梯度凝固法(F-,Y~(3+)):PWO 晶体的生长 | 第45页 |
| ·垂直梯度凝固法生长(F-,Y~(3+)):PWO 晶体光学性能分析测试 .33 | 第45-49页 |
| ·垂直梯度凝固法生长(F‐,Y~(3+)):PWO 晶体 XRD 分析 | 第45页 |
| ·垂直梯度凝固法生长(F‐,Y~(3+)):PWO 晶体透射光谱 | 第45-46页 |
| ·垂直梯度凝固法生长(F‐,Y~(3+)):PWO 晶体荧光光谱 | 第46-47页 |
| ·垂直梯度凝固法生长(F‐,Y~(3+)):PWO 晶体光产额性能 | 第47-48页 |
| ·垂直梯度凝固法生长(F‐,Y~(3+)):PWO 晶体衰减时间性能 | 第48-49页 |
| ·本章小结 | 第49-51页 |
| 第四章 钨酸铅单晶的不同离子扩散及光学性能研究 | 第51-61页 |
| ·钨酸铅晶体的 Ce~(3+)扩散及光学性能 | 第51-54页 |
| ·Ce~(3+)扩散钨酸铅晶体的制备 | 第51页 |
| ·Ce~(3+)扩散钨酸铅晶体光学性能研究 | 第51-54页 |
| ·Ce~(3+)扩散钨酸铅晶体透过光谱 | 第51-52页 |
| ·Ce~(3+)扩散钨酸铅晶体荧光光谱 | 第52-53页 |
| ·Ce~(3+)扩散钨酸铅晶体光产额性能 | 第53页 |
| ·Ce~(3+)扩散钨酸铅晶体衰减时间性能 | 第53-54页 |
| ·钨酸铅晶体的 Eu~(3+)扩散及光学性能 | 第54-57页 |
| ·Eu~(3+)扩散钨酸铅晶体的制备 | 第54页 |
| ·Eu~(3+)扩散钨酸铅晶体光学性能研究 | 第54-57页 |
| ·Eu~(3+)扩散钨酸铅晶体透过光谱 | 第54-55页 |
| ·Eu~(3+)扩散钨酸铅晶体荧光光谱 | 第55页 |
| ·Eu~(3+)扩散钨酸铅晶体光产额性能 | 第55-56页 |
| ·Eu~(3+)扩散钨酸铅晶体衰减时间性能 | 第56-57页 |
| ·钨酸铅晶体的 Cr~(3+)扩散及光学性能 | 第57-59页 |
| ·Cr~(3+)扩散钨酸铅晶体的制备 | 第57页 |
| ·Cr~(3+)扩散钨酸铅晶体光学性能研究 | 第57-59页 |
| ·Cr~(3+)扩散钨酸铅晶体透过光谱 | 第57页 |
| ·Cr~(3+)扩散钨酸铅晶体荧光光谱 | 第57-58页 |
| ·Cr~(3+)扩散钨酸铅晶体光产额性能 | 第58页 |
| ·Cr~(3+)扩散钨酸铅晶体衰减时间性能 | 第58-59页 |
| ·本章小结 | 第59-61页 |
| 第五章 钨酸铅晶体退火实验 | 第61-67页 |
| ·钨酸铅晶体不同气氛退火样品制备 | 第61页 |
| ·不同气氛退火钨酸铅晶体性能测试 | 第61-65页 |
| ·不同气氛退火钨酸铅晶体透过、吸收光谱 | 第61-62页 |
| ·不同气氛退火钨酸铅晶体荧光光谱 | 第62-63页 |
| ·不同气氛退火钨酸铅晶体光产额性能 | 第63页 |
| ·不同气氛退火钨酸铅晶体衰减时间性能 | 第63-65页 |
| ·本章小结 | 第65-67页 |
| 第六章 钨酸铅微晶原料的合成及性能研究 | 第67-77页 |
| ·共沉淀法合成钨酸铅微晶原料 | 第67-72页 |
| ·钨酸铅微晶原料的共沉淀合成 | 第67页 |
| ·共沉淀合成钨酸铅微晶原料性能测试 | 第67-70页 |
| ·共沉淀合成钨酸铅微晶 XRD 谱图 | 第67-68页 |
| ·共沉淀合成钨酸铅微晶场发射扫描电子显微镜 | 第68-69页 |
| ·共沉淀合成钨酸铅微晶能量色散光谱(EDS)分析 | 第69页 |
| ·共沉淀合成钨酸铅微晶荧光光谱 | 第69-70页 |
| ·PWO 微晶形貌的形成及机理 | 第70-72页 |
| ·超声辅助法 Ce~(3+)、Cl-钨酸铅微晶原料的合成及性能研究 | 第72-74页 |
| ·超声辅助法 Ce~(3+)、Cl-钨酸铅微晶原料的合成 | 第72页 |
| ·超声辅助法合成 Ce~(3+)、Cl-钨酸铅微晶原料性能测试 | 第72-74页 |
| ·超声辅助法合成 Ce~(3+)、Cl-钨酸铅微晶 XRD 谱图 | 第72-73页 |
| ·超声辅助法合成 Ce~(3+)、Cl‐钨酸铅微 FESEM 图像 | 第73页 |
| ·超声辅助法合成 Ce~(3+)、Cl‐钨酸铅微晶荧光光谱 | 第73-74页 |
| ·本章小结 | 第74-77页 |
| 第七章 结论 | 第77-79页 |
| 参考文献 | 第79-87页 |
| 致谢 | 第87-89页 |
| 附录 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第89页 |
