| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-12页 |
| ·研究的意义 | 第7-8页 |
| ·半导体表面的研究概述 | 第8-9页 |
| ·表面研究的基本内容和基本方法 | 第8页 |
| ·半导体材料表面研究进展 | 第8-9页 |
| ·Si(100)表面的研究现状 | 第9-11页 |
| ·本论文的主要究研内容 | 第11-12页 |
| 第二章 基础理论和计算方法 | 第12-28页 |
| ·密度泛函理论(DFT) | 第12-16页 |
| ·Hohenberg-Kohn定理 | 第12-13页 |
| ·Kohn-Sham方程 | 第13-14页 |
| ·局域密度近似(LDA) | 第14-15页 |
| ·广义梯度近似(GGA) | 第15-16页 |
| ·雁势方法(PSEUDOPOTENTIAL METHOD) | 第16-17页 |
| ·范数不变赝势(norm -conserving pseudopotential,NCPP) | 第16页 |
| ·超软赝势(Ultrasoft Pseudopotential USPP) | 第16-17页 |
| ·投影缀加波(PAW)方法 | 第17-25页 |
| ·PAW引入 | 第17-20页 |
| ·PAW方法中的能量表示 | 第20-23页 |
| ·PAW方法下的Hamilton算符 | 第23-24页 |
| ·PAW方法下的力表示 | 第24-25页 |
| ·超元胞模型及平面波基组 | 第25-27页 |
| ·VASP软件包简介 | 第27-28页 |
| 第三章 Si(100)-2×1重构表面研究 | 第28-34页 |
| ·计算方法和模型 | 第28-29页 |
| ·计算结果与分析 | 第29-34页 |
| ·Si(100)重构表面结构分析 | 第29-32页 |
| ·Si(100)重构表面态密度分析 | 第32-34页 |
| 第四章 硅表面EO分子的吸附研究 | 第34-44页 |
| ·计算模型 | 第34-37页 |
| ·计算结果与分析 | 第37-44页 |
| ·吸附模型结构分析 | 第37-39页 |
| ·吸附结构表面态密度分析 | 第39-44页 |
| 第五章 总结与展望 | 第44-46页 |
| 参考文献 | 第46-51页 |
| 致谢 | 第51页 |
