| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 引言 | 第10-22页 |
| ·金刚石及其纳米材料简述 | 第10页 |
| ·纳米金刚石性能 | 第10-12页 |
| ·机械性能 | 第10页 |
| ·电学性能 | 第10-11页 |
| ·光学性能 | 第11页 |
| ·热学性能 | 第11-12页 |
| ·生物性能 | 第12页 |
| ·金刚石及其纳米金刚石国内外研究发展历史 | 第12-13页 |
| ·纳米金刚石形核方法 | 第13-16页 |
| ·金属催化形核 | 第14-15页 |
| ·爆炸形核 | 第15-16页 |
| ·缺陷形核 | 第16页 |
| ·偏压形核 | 第16页 |
| ·纳米金刚石薄膜制备方法 | 第16-18页 |
| ·微波法 | 第17页 |
| ·射频法 | 第17页 |
| ·热丝法 | 第17-18页 |
| ·一维纳米金刚石制备方法 | 第18-19页 |
| ·纳米金刚石的应用 | 第19-20页 |
| ·本课题研究意义 | 第20-22页 |
| 第二章 实验方法 | 第22-32页 |
| ·实验方案 | 第22-23页 |
| ·仪器设备及其原理 | 第23-25页 |
| ·磁控溅射仪 | 第23-24页 |
| ·微波等离子体化学气相沉积装置 | 第24-25页 |
| ·金刚石薄膜制备方法 | 第25-27页 |
| ·实验材料 | 第25页 |
| ·Ni催化剂制备 | 第25-26页 |
| ·金刚石薄膜制备过程 | 第26-27页 |
| ·制备金刚石薄膜工艺流程图 | 第27-30页 |
| ·金刚石薄膜结构表征 | 第30-32页 |
| ·金刚石结构 | 第30页 |
| ·拉曼光谱(Raman Spectrum) | 第30-31页 |
| ·微区XRD(Micro-area X-ray Diffraction,MA-XRD) | 第31页 |
| ·扫描电子显微镜(Scanning Electron Microscope,SEM) | 第31页 |
| ·X射线光电子能谱分析(X-ray Photoelectron Spectroscopy Analysis,XPS) | 第31-32页 |
| 第三章 合成工艺参数对金刚石薄膜的影响 | 第32-48页 |
| ·衬底材料 | 第32-34页 |
| ·不同衬底材料上沉积的金刚石薄膜形貌 | 第32-33页 |
| ·不同衬底材料上沉积金刚石薄膜的拉曼光谱 | 第33-34页 |
| ·H等离子体预处理衬底时间对金刚石薄膜形貌的影响 | 第34-35页 |
| ·衬底温度对金刚石薄膜的影响 | 第35-40页 |
| ·温度对金刚石薄膜形貌的影响 | 第35-37页 |
| ·温度对金刚石薄膜晶体取向的影响 | 第37-39页 |
| ·温度对金刚石薄膜SP~3含量的影响 | 第39页 |
| ·不同衬底温度沉积金刚石薄膜的拉曼光谱 | 第39-40页 |
| ·微波功率对金刚石薄膜影响 | 第40-43页 |
| ·微波功率对金刚石薄膜形貌的影响 | 第40-42页 |
| ·不同微波功率沉积金刚石薄膜的拉曼光谱 | 第42-43页 |
| ·反应气压对金刚石薄膜的影响 | 第43-46页 |
| ·反应气压对金刚石薄膜形貌的影响 | 第43-45页 |
| ·不同反应气压沉积金刚石薄膜的拉曼光谱 | 第45-46页 |
| ·本章小结 | 第46-48页 |
| 第四章 动态压力法沉积纳米金刚石柱状晶薄膜 | 第48-52页 |
| 本章小结 | 第51-52页 |
| 第五章 纳米金刚石薄膜形成机理 | 第52-58页 |
| ·纳米金刚石薄膜生长方式 | 第52-53页 |
| ·纳米金刚石薄膜生长机理 | 第53-57页 |
| ·纳米金刚石形核机理 | 第53-55页 |
| ·纳米金刚石生长机理 | 第55-57页 |
| ·纳米金刚石柱状晶生长机理 | 第57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 第六章 结论 | 第58-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-64页 |
