偏压电子束蒸发沉积氧化物光学薄膜研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-18页 |
| ·课题背景 | 第8页 |
| ·光学薄膜的发展与应用 | 第8-12页 |
| ·薄膜的制备技术 | 第12-17页 |
| ·热蒸发 | 第12页 |
| ·溅射 | 第12-14页 |
| ·离子束辅助沉积 | 第14-15页 |
| ·离子镀 | 第15-16页 |
| ·反应蒸发沉积 | 第16页 |
| ·本试验所用制备方法 | 第16-17页 |
| ·本文主要研究意义与研究内容 | 第17-18页 |
| 第2章 试验材料、设备与方法 | 第18-28页 |
| ·试验材料与试样制备 | 第18-20页 |
| ·试验设备及工作原理 | 第20-24页 |
| ·试验工艺研究 | 第24-26页 |
| ·薄膜表征手段 | 第26-27页 |
| ·本章小结 | 第27-28页 |
| 第3章 薄膜厚度监测与校正 | 第28-35页 |
| ·光学薄膜的结构设计原理 | 第28-29页 |
| ·薄膜厚度的监测原理 | 第29-32页 |
| ·膜厚仪参数校正 | 第32-34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 第4章 膜基结合强度测试与分析 | 第35-48页 |
| ·划痕法测试原理 | 第35-36页 |
| ·划痕法测试方案 | 第36页 |
| ·膜基结合强度测试结果与分析 | 第36-45页 |
| ·薄膜厚度对膜基结合强度的影响 | 第36-38页 |
| ·基片温度对膜基结合强度的影响 | 第38-39页 |
| ·基片偏压对膜基结合强度的影响 | 第39-45页 |
| ·膜基结合机理研究 | 第45-46页 |
| ·本章小结 | 第46-48页 |
| 第5章 薄膜的结构与成分分析 | 第48-58页 |
| ·X射线衍射分析的基本原理 | 第48-49页 |
| ·薄膜的XRD测试方案 | 第49页 |
| ·薄膜XRD测试结果及分析 | 第49-52页 |
| ·TiO_2薄膜的XRD测试结果 | 第49-50页 |
| ·SiO_2薄膜的XRD测试结果 | 第50-51页 |
| ·Ta_2O_5薄膜的XRD测试结果 | 第51-52页 |
| ·X 射线光电子能谱分析的基本原理 | 第52-54页 |
| ·X 射线光电子能谱的测试方案 | 第54页 |
| ·X射线光电子能谱测试结果与分析 | 第54-57页 |
| ·SiO_2薄膜的XPS测试结果与分析 | 第54-56页 |
| ·Ta_2O_5薄膜的XPS测试结果与分析 | 第56-57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 结论 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-63页 |
| 哈尔滨工业大学硕士学位论文原创性声明 | 第63页 |
| 哈尔滨工业大学硕士学位论文使用授权书 | 第63页 |
| 哈尔滨工业大学硕士学位涉密论文管理 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64页 |
