| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第1章 引言 | 第8-17页 |
| ·铁电体的研究进展 | 第8-11页 |
| ·集成铁电学的发展过程和应用前景 | 第11-13页 |
| ·铁电薄膜及铁电存储器研究概况 | 第13-16页 |
| ·本论文的主要内容及其意义 | 第16-17页 |
| 第2章 薄膜制备方法 | 第17-23页 |
| ·脉冲激光烧蚀沉积原理（PLA） | 第17-19页 |
| ·磁控溅射镀膜法 | 第19-22页 |
| ·小结 | 第22-23页 |
| 第3章 Ni-Al 薄膜的制备与表征 | 第23-30页 |
| ·金属间化合物Ni_3Al 材料 | 第23-25页 |
| ·Ni-Al 薄膜的制备 | 第25-27页 |
| ·Ni-Al 薄膜的表征 | 第27-29页 |
| ·小结 | 第29-30页 |
| 第4章 底电极LaNiO_3薄膜对铁电薄膜的影响 | 第30-38页 |
| ·沉积温度对LaNiO_3薄膜结构和性能的影响 | 第30-34页 |
| ·沉积功率对LaNiO_3薄膜结构和性能的影响 | 第34-35页 |
| ·LaNiO_3薄膜底电极对铁电电容器的影响 | 第35-37页 |
| ·小结 | 第37-38页 |
| 第5章 Si 基PZT 铁电薄膜电容器的研究 | 第38-41页 |
| ·Pt/PZT/LNO/SiO_2/Si 薄膜电容器 | 第38-39页 |
| ·Pt/PZT/LNO/Ni-Al/Si 薄膜电容器 | 第39-40页 |
| ·小结 | 第40-41页 |
| 第6章 结束语 | 第41-43页 |
| 参考文献 | 第43-48页 |
| 致谢 | 第48页 |