| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 1 绪论 | 第11-24页 |
| ·ZnO的物理特性 | 第13-16页 |
| ·晶体结构 | 第13-14页 |
| ·电学性能 | 第14-15页 |
| ·光学性能 | 第15页 |
| ·压电性能 | 第15-16页 |
| ·ZnO薄膜的应用 | 第16-18页 |
| ·紫外光探测器 | 第16-17页 |
| ·太阳能电池 | 第17页 |
| ·气敏元件 | 第17-18页 |
| ·ZnO压电陶瓷及声表面波器件 | 第18页 |
| ·发光器件 | 第18页 |
| ·声表面波滤波器 | 第18-21页 |
| ·声表面波 | 第18-19页 |
| ·叉指换能器(IDT) | 第19页 |
| ·声表面波滤波器 | 第19-20页 |
| ·压电材料参数 | 第20-21页 |
| ·ZnO薄膜的制备技术 | 第21-24页 |
| ·脉冲激光沉积 | 第21-22页 |
| ·分子束外延 | 第22页 |
| ·金属有机物化学气相沉积 | 第22-23页 |
| ·磁控溅射 | 第23页 |
| ·溶胶—凝胶 | 第23-24页 |
| 2 薄膜制备及分析方法 | 第24-34页 |
| ·薄膜的制备方法 | 第24-28页 |
| ·射频磁控溅射技术基本原理及特点 | 第24-25页 |
| ·实验设备 | 第25-26页 |
| ·影响磁控溅射沉积ZnO薄膜的主要因素 | 第26-28页 |
| ·JGPG-450型超高真空磁控溅射设备主要实验参数范围 | 第28页 |
| ·薄膜的分析方法 | 第28-34页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第28-29页 |
| ·电子探针(EPMA) | 第29页 |
| ·扫描电镜(SEM) | 第29-30页 |
| ·发光致光(PL) | 第30-31页 |
| ·霍尔效应 | 第31-34页 |
| 3 衬底选择 | 第34-40页 |
| ·金刚石的优异性能 | 第34-38页 |
| ·金刚石的晶体结构 | 第34-35页 |
| ·金刚石的分类 | 第35页 |
| ·金刚石的力学性质 | 第35-36页 |
| ·金刚石的热学性质 | 第36-37页 |
| ·金刚石的电学性质 | 第37页 |
| ·金刚石的声学性质 | 第37-38页 |
| ·自持金刚石厚膜的预处理 | 第38-40页 |
| ·机械处理 | 第38-39页 |
| ·化学处理 | 第39-40页 |
| 4 不同沉积温度下ZnO的特性分析 | 第40-45页 |
| ·ZnO薄膜的制备参数 | 第40页 |
| ·结果与分析 | 第40-44页 |
| ·沉积温度对ZnO薄膜结晶特性的影响 | 第40-42页 |
| ·沉积温度对ZnO薄膜表面形貌的影响 | 第42-43页 |
| ·沉积温度对ZnO薄膜发光性能的影响 | 第43页 |
| ·ZnO薄膜的电学性能 | 第43-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 5 不同Ar/O_2比条件下ZnO的特性分析 | 第45-50页 |
| ·ZnO薄膜的制备参数 | 第45页 |
| ·结果与分析 | 第45-49页 |
| ·O_2/Ar比对ZnO薄膜结晶特性的影响 | 第45-47页 |
| ·O_2/Ar比对ZnO薄膜发光性能的影响 | 第47-49页 |
| ·ZnO薄膜的电学性能 | 第49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 6 不同射频功率条件下ZnO的特性分析 | 第50-56页 |
| ·ZnO薄膜的制备参数 | 第50页 |
| ·结果与分析 | 第50-55页 |
| ·射频功率对ZnO薄膜结晶特性的影响 | 第50-52页 |
| ·射频功率对ZnO薄膜发光性能的影响 | 第52-53页 |
| ·射频功率对ZnO薄膜的Zn/O的影响 | 第53-54页 |
| ·ZnO薄膜的形貌和电学性能 | 第54-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 结论 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-61页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |