| 摘要 | 第1-15页 |
| ABSTRACT | 第15-17页 |
| 第一章 绪论 | 第17-68页 |
| ·贝壳珍珠层的生物矿化及其对仿生合成的启示 | 第18-29页 |
| ·贝壳珍珠层的微结构 | 第18-23页 |
| ·贝壳珍珠层的生物矿化机制 | 第23-26页 |
| ·贝壳珍珠层对仿生合成的启示 | 第26-29页 |
| ·有序介孔材料的研究概述 | 第29-39页 |
| ·有序介孔材料的结构及其合成方法 | 第30-35页 |
| ·有序介孔材料的合成机理 | 第35-39页 |
| ·有序介孔二氧化硅薄膜的制备及其组装化学 | 第39-49页 |
| ·有序介孔二氧化硅薄膜的制备方法 | 第39-43页 |
| ·影响介孔二氧化硅薄膜结构的主要因素 | 第43-45页 |
| ·介孔二氧化硅薄膜的修饰及组装化学 | 第45-49页 |
| ·论文选题依据及研究内容 | 第49-52页 |
| 参考文献 | 第52-68页 |
| 第二章 贝壳珍珠层的微结构分析及其仿生合成 | 第68-94页 |
| ·贝壳珍珠层的微结构动态分析 | 第69-81页 |
| ·试样制作及分析测试方法 | 第69-70页 |
| ·贝壳珍珠层的结构 | 第70-72页 |
| ·珍珠层的FTIR、Raman和XPS分析 | 第72-75页 |
| ·珍珠层中文石晶体取向 | 第75-81页 |
| ·气—液界面仿生合成介孔二氧化硅薄膜 | 第81-89页 |
| ·介孔二氧化硅薄膜的制备 | 第82-83页 |
| ·合成条件的优化 | 第83-86页 |
| ·表面活性剂的去除 | 第86页 |
| ·介孔二氧化硅薄膜的结构与表征 | 第86-89页 |
| ·本章小结 | 第89-90页 |
| 参考文献 | 第90-94页 |
| 第三章 蒸发诱导自组装仿生合成有序介孔二氧化硅薄膜 | 第94-122页 |
| ·有序介孔二氧化硅薄膜的制备 | 第95-96页 |
| ·基片准备 | 第95页 |
| ·介孔二氧化硅薄膜的制备 | 第95-96页 |
| ·CTAB/TEOS比值对介孔薄膜组装的影响 | 第96-101页 |
| ·溶胶陈化对介孔薄膜组装的影响 | 第101-107页 |
| ·静止陈化 | 第102-103页 |
| ·搅拌陈化 | 第103-107页 |
| ·大孔径(3～9nm)介孔二氧化硅薄膜的合成 | 第107-111页 |
| ·微观结构分析 | 第108-110页 |
| ·孔结构分析 | 第110-111页 |
| ·表面活性剂与介孔薄膜结构的关系 | 第111-115页 |
| ·介孔ITO薄膜的仿生合成 | 第115-117页 |
| ·本章小结 | 第117-118页 |
| 参考文献 | 第118-122页 |
| 第四章 氨基功能化介孔二氧化硅薄膜的合成与表征 | 第122-145页 |
| ·氨基功能化介孔二氧化硅薄膜的制备 | 第123-124页 |
| ·不同因素对介孔薄膜组装的影响 | 第124-132页 |
| ·溶胶陈化对介孔薄膜组装的影响 | 第124-126页 |
| ·溶胶的组成对介孔薄膜组装的影响 | 第126-132页 |
| ·氨基功能化介孔薄膜的结构表征 | 第132-141页 |
| ·微观结构分析 | 第133-137页 |
| ·FTIR分析 | 第137-138页 |
| ·XPS分析 | 第138-139页 |
| ·热分析 | 第139-140页 |
| ·孔结构分析 | 第140-141页 |
| ·本章小结 | 第141-143页 |
| 参考文献 | 第143-145页 |
| 第五章 磷钼酸/二氧化硅介孔复合薄膜的制备及其光致变色伪装方案探讨 | 第145-177页 |
| ·PMo/二氧化硅介孔复合薄膜的制备 | 第146页 |
| ·PMo/二氧化硅介孔复合薄膜的表征 | 第146-152页 |
| ·结构分析 | 第147-149页 |
| ·FTIR分析 | 第149-151页 |
| ·热分析 | 第151-152页 |
| ·PMo/二氧化硅介孔复合薄膜的光致变色性能 | 第152-159页 |
| ·光致变色性能 | 第152-156页 |
| ·光致变色机理探讨 | 第156-159页 |
| ·有序介孔二氧化硅薄膜在变色伪装领域的应用探讨 | 第159-173页 |
| ·生物的变色伪装 | 第159-160页 |
| ·光致变色伪装技术 | 第160-161页 |
| ·基于有序介孔二氧化硅薄膜的光致变色伪装技术的初步探讨 | 第161-173页 |
| ·本章小结 | 第173-175页 |
| 参考文献 | 第175-177页 |
| 第六章 介孔二氧化硅薄膜修饰电极的电化学性能研究及生化战剂检测探讨 | 第177-211页 |
| ·有序介孔二氧化硅薄膜修饰电极的制备 | 第178-179页 |
| ·PMo/二氧化硅介孔复合薄膜修饰电极的制备 | 第178-179页 |
| ·Cyt c/二氧化硅介孔复合薄膜修饰电极的制备 | 第179页 |
| ·PMo/二氧化硅介孔复合薄膜修饰电极的电化学性质 | 第179-184页 |
| ·修饰电极的氧化还原电化学性质 | 第180-181页 |
| ·修饰电极的稳定性 | 第181-182页 |
| ·修饰电极的化学传感性能 | 第182-184页 |
| ·Cyt c在介孔二氧化硅薄膜上的组装和固定 | 第184-189页 |
| ·孔径大小对Cyt c组装的影响 | 第184-185页 |
| ·氨基含量对Cyt c组装的影响 | 第185-187页 |
| ·吸附Cyt c后介孔薄膜的结构变化 | 第187-189页 |
| ·Cyt c/二氧化硅介孔复合薄膜修饰电极的电化学及其传感性能 | 第189-195页 |
| ·修饰电极的伏安行为 | 第189-192页 |
| ·修饰电极的稳定性和重现性 | 第192-193页 |
| ·修饰电极的传感性能 | 第193-195页 |
| ·有序介孔二氧化硅薄膜在生化战剂检测领域的应用探讨 | 第195-205页 |
| ·生化战剂概述 | 第196-197页 |
| ·生化战剂检测 | 第197-198页 |
| ·有序介孔二氧化硅薄膜在生化战剂检测领域应用的初步探讨 | 第198-205页 |
| ·本章小结 | 第205-206页 |
| 参考文献 | 第206-211页 |
| 第七章 结论 | 第211-213页 |
| 附录A 主要试剂 | 第213-214页 |
| 附录B 分析表征和测试方法 | 第214-216页 |
| 攻读博士学位期间发表论文题录 | 第216-218页 |
| 致谢 | 第218页 |
