| 中文摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-22页 |
| ·声表面波和声表面波器件 | 第9-11页 |
| ·声表面波的分类 | 第9-10页 |
| ·声表面波器件的历史 | 第10页 |
| ·声表面波器件的优点 | 第10-11页 |
| ·金刚石多层膜结构声表面波器件 | 第11-14页 |
| ·研究意义 | 第11-12页 |
| ·结构特点 | 第12-14页 |
| ·金刚石多层膜结构声表面波器件的研究进展 | 第14-19页 |
| ·器件制作的研究进展 | 第14-16页 |
| ·材料制备的研究进展 | 第16-19页 |
| ·本论文主要研究内容 | 第19-22页 |
| 第二章 金刚石基底的制备 | 第22-38页 |
| ·实验介绍 | 第22-23页 |
| ·自支撑金刚石厚膜的制备与表征 | 第23-30页 |
| ·金刚石的制备 | 第23-25页 |
| ·金刚石的表征 | 第25-30页 |
| ·金刚石抛光前后对比 | 第30-36页 |
| ·形貌分析 | 第30-31页 |
| ·微结构分析 | 第31-34页 |
| ·热学性质分析 | 第34-36页 |
| ·本章小结 | 第36-38页 |
| 第三章 适用于高频声表面波器件的高品质ZnO 薄膜的制备表征 | 第38-66页 |
| ·实验介绍 | 第38-40页 |
| ·Si 基底上ZnO 薄膜的制备 | 第40-57页 |
| ·沉积参数的优化 | 第40-42页 |
| ·基底预处理对ZnO 薄膜品质的影响 | 第42-57页 |
| ·金刚石基底上ZnO 薄膜的制备 | 第57-65页 |
| ·沉积参数的优化 | 第57-59页 |
| ·后期处理对ZnO 薄膜品质的影响 | 第59-65页 |
| ·本章小结 | 第65-66页 |
| 第四章 ZnO 薄膜压电性能的研究 | 第66-88页 |
| ·ZnO 薄膜压电力显微镜研究的现状与原理 | 第66-72页 |
| ·压电薄膜的压电力显微镜研究现状 | 第67页 |
| ·PFM 检测的原理 | 第67-71页 |
| ·ZnO 压电薄膜的压电力显微镜检测 | 第71-72页 |
| ·C 轴取向ZnO 薄膜的压电性能分析 | 第72-80页 |
| ·样品的制备 | 第72-73页 |
| ·样品的结晶性和取向性分析 | 第73页 |
| ·样品的局部压电性分析 | 第73-80页 |
| ·基底温度对高c 轴取向ZnO 薄膜压电性能的影响 | 第80-86页 |
| ·样品的制备 | 第81页 |
| ·样品结晶性和取向性分析 | 第81-82页 |
| ·样品的局部压电性分析 | 第82-86页 |
| ·本章小结 | 第86-88页 |
| 第五章 高频声表面波滤波器的制备及性能分析 | 第88-106页 |
| ·IDT(Al)/LiTaO_3 结构声表面波滤波器的制备及性能分析 | 第88-98页 |
| ·LiTaO_3 基底的清洗 | 第89页 |
| ·Al 膜电极的沉积 | 第89-94页 |
| ·叉指换能器的制作 | 第94-96页 |
| ·其他后继工作 | 第96-97页 |
| ·器件性能检测 | 第97-98页 |
| ·ZnO/IDT(Al)/金刚石结构声表面波滤波器的制备及性能分析 | 第98-104页 |
| ·金刚石基底的清洗 | 第98-99页 |
| ·抛光金刚石上金属Al 膜的沉积 | 第99-101页 |
| ·叉指换能器的制作 | 第101-102页 |
| ·ZnO 薄膜的沉积 | 第102-103页 |
| ·器件性能检测 | 第103-104页 |
| ·本章小结 | 第104-106页 |
| 第六章 总结与展望 | 第106-109页 |
| ·全文总结 | 第106-108页 |
| ·展望 | 第108-109页 |
| 参考文献 | 第109-120页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第120-122页 |
| 致谢 | 第122页 |
