紫外纳米压印关键技术—图形转移层与模压曝光工艺研究
| 摘要 | 第1-8页 |
| ABSTRACT | 第8-13页 |
| 第1章 引言 | 第13-19页 |
| ·选题依据和背景 | 第13-14页 |
| ·纳米压印技术溯源 | 第14-16页 |
| ·纳米压印研究现状 | 第16-17页 |
| ·国外发展概况 | 第16-17页 |
| ·国内发展概况 | 第17页 |
| ·论文的体系结构及主要工作 | 第17-19页 |
| 第2章 纳米压印技术分类与紫外纳米压印原理 | 第19-27页 |
| ·纳米压印技术 | 第19页 |
| ·微接触(μCP) | 第19-20页 |
| ·热压印(HEL) | 第20-21页 |
| ·紫外纳米压印(UV-NIL) | 第21-25页 |
| ·图形转移层工艺 | 第22-23页 |
| ·模压工艺 | 第23页 |
| ·紫外曝光固化工艺 | 第23页 |
| ·整体式压印与分步式压印的比较 | 第23-25页 |
| ·三种压印工艺比较 | 第25-27页 |
| 第3章 紫外纳米压印技术图形转移层工艺 | 第27-49页 |
| ·粘性流体运动理论 | 第28-29页 |
| ·粘性流体力学理论 | 第29-31页 |
| ·粘性流体运动微分方程 | 第29-30页 |
| ·牛顿内摩擦定律 | 第30-31页 |
| ·旋转圆盘理论与图形转移层数学模型 | 第31-35页 |
| ·旋转涂胶设备工艺控制参数与图形转移层厚度 | 第35-42页 |
| ·旋转涂胶转速与图形转移层厚度关系 | 第35-37页 |
| ·旋转涂胶时间与图形转移层厚度关系 | 第37-38页 |
| ·滴胶量与图形转移层厚度关系 | 第38-40页 |
| ·粘度与图形转移层厚度关系 | 第40-42页 |
| ·旋转涂胶设备工艺控制参数与图形转移层厚度均匀性 | 第42-46页 |
| ·旋转涂胶加速度与图形转移层厚度均匀性关系 | 第43-44页 |
| ·旋转涂胶时间与图形转移层厚度均匀性关系 | 第44-46页 |
| ·图形转移层工艺参数讨论 | 第46-49页 |
| 第4章 紫外纳米压印技术模压曝光工艺 | 第49-75页 |
| ·模板材料 | 第49-52页 |
| ·模板厚度设计 | 第52-54页 |
| ·模板变形量与模板厚度的关系 | 第52-53页 |
| ·模板厚度设计实例 | 第53-54页 |
| ·模压过程中流体动力学模型 | 第54-59页 |
| ·模压过程简介 | 第54-55页 |
| ·模压过程中的流体动力学模型 | 第55-59页 |
| ·模板特征图形结构与图形转移层厚度的关系 | 第59-61页 |
| ·模压工艺设计实例 | 第61-66页 |
| ·紫外曝光固化工艺 | 第66-72页 |
| ·紫外曝光固化理论与感光有机溶剂的选用 | 第66-68页 |
| ·单波长入射光曝光固化模型 | 第68-69页 |
| ·多波长入射光曝光固化模型 | 第69-72页 |
| ·紫外固化曝光工艺设计实例 | 第72-75页 |
| 第5章 紫外纳米压印实验与分析 | 第75-90页 |
| ·实验设备与测试仪器 | 第75-77页 |
| ·扫描探针显微镜AFM | 第75-76页 |
| ·扫描电镜SEM | 第76-77页 |
| ·台阶仪 | 第77页 |
| ·紫外纳米压印实验五大工艺因素影响分析 | 第77-80页 |
| ·图形转移层厚度控制 | 第77-79页 |
| ·图形转移层均匀性 | 第79页 |
| ·压印力控制 | 第79-80页 |
| ·压印时间控制 | 第80页 |
| ·紫外曝光固化时间控制 | 第80页 |
| ·优化五大工艺因素后的压印结果分析 | 第80-90页 |
| 第6章 结论与展望 | 第90-92页 |
| ·结论 | 第90-91页 |
| ·进一步工作的方向 | 第91-92页 |
| 致谢 | 第92-93页 |
| 参考文献 | 第93-96页 |
| 个人简历 在读期间发表的学术论文与研究成果 | 第96页 |
