| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 符号说明 | 第9-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-27页 |
| ·课题研究背景及意义 | 第10-13页 |
| ·超精密双面抛光加工机理 | 第13-18页 |
| ·超精密双面抛光过程描述 | 第13-15页 |
| ·超精密双面CMP系统过程变量对抛光过程的影响 | 第15-18页 |
| ·国内外研究现状 | 第18-25页 |
| ·超精密双面抛光加工设备的研究现状 | 第18-23页 |
| ·超精密双面抛光加工工艺的研究现状 | 第23-25页 |
| ·本论文主要研究内容 | 第25页 |
| ·本章小结 | 第25-27页 |
| 第二章 MS-6BC型精密双面抛光机的研制 | 第27-44页 |
| ·双面抛光机总体设计方案 | 第27-32页 |
| ·超精密双面抛光机床的要求 | 第27页 |
| ·MS-6BC型双面抛光机的总体设计方案 | 第27-32页 |
| ·超精密双面抛光机控制系统 | 第32-40页 |
| ·超精密抛光机控制要求及实现方案 | 第32页 |
| ·超精密双面抛光机控制系统硬件设计 | 第32-39页 |
| ·双面抛光加工系统的软件设计 | 第39-40页 |
| ·设备运行及检测 | 第40-43页 |
| ·机械部件调试 | 第40-41页 |
| ·自动控制运行模式调试 | 第41-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 第三章 双面抛光运动轨迹数学模型及仿真的研究 | 第44-65页 |
| ·双面抛光运动轨迹数学模型的建立 | 第44-49页 |
| ·双面抛光机的运动原理 | 第44-45页 |
| ·抛光盘相对工件的运动轨迹方程 | 第45-47页 |
| ·工件相对抛光盘的运动轨迹方程 | 第47-49页 |
| ·双面抛光运动轨迹的模拟仿真及分析 | 第49-60页 |
| ·抛光盘相对工件的运动轨迹的模拟及分析 | 第50-56页 |
| ·工件相对抛光盘的运动轨迹的模拟及分析 | 第56-60页 |
| ·双面抛光均匀性的分析及研究 | 第60-64页 |
| ·抛光均匀性函数的建立 | 第60-61页 |
| ·工件均匀抛光条件及影响因素 | 第61-64页 |
| ·本章小结 | 第64-65页 |
| 第四章 单晶硅抛光加工工艺优化及分析 | 第65-78页 |
| ·双面抛光工艺实验条件 | 第65-66页 |
| ·工艺参数对抛光的影响及分析 | 第66-75页 |
| ·内外齿圈转速对抛光质量的影响 | 第66-70页 |
| ·抛光压力对抛光质量的影响 | 第70-71页 |
| ·抛光液对抛光质量的影响 | 第71-75页 |
| ·优化的单晶硅双面抛光加工工艺 | 第75-77页 |
| ·本章小结 | 第77-78页 |
| 第五章 结论与展望 | 第78-80页 |
| ·研究总结 | 第78-79页 |
| ·课题展望 | 第79-80页 |
| 参考文献 | 第80-85页 |
| 致谢 | 第85-86页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文、参与的科研项目与科研成果 | 第86页 |