| 中文摘要 | 第1-5页 |
| 英文摘要 | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-15页 |
| ·课题研究的背景 | 第9-12页 |
| ·课题的提出 | 第9-10页 |
| ·三氧化钨薄膜制备及性能研究现状 | 第10-11页 |
| ·三氧化钨薄膜应用研究现状 | 第11-12页 |
| ·课题已有的研究成果 | 第12-13页 |
| ·本文主要研究内容 | 第13-15页 |
| 2 三氧化钨薄膜的掺杂试验原理及制备方法 | 第15-25页 |
| ·概述 | 第15页 |
| ·三氧化钨薄膜变色机理 | 第15-17页 |
| ·三氧化钨薄膜气致变色机理 | 第15-16页 |
| ·三氧化钨薄膜电致变色机理 | 第16-17页 |
| ·三氧化钨薄膜最佳掺杂量的计算 | 第17-18页 |
| ·三氧化钨掺杂薄膜的制备方法 | 第18-19页 |
| ·三氧化钨溶胶中掺钯 | 第19-22页 |
| ·主要试验试剂 | 第19页 |
| ·主要试验仪器 | 第19页 |
| ·钨粉过氧化聚钨酸法试验步骤 | 第19-20页 |
| ·溶胶稳定和成膜机理 | 第20-21页 |
| ·正交试验设计 | 第21-22页 |
| ·直流磁控溅射法制作掺铂三氧化钨薄膜 | 第22-23页 |
| ·主要试验试剂 | 第22页 |
| ·主要试验仪器 | 第22页 |
| ·试验前的准备 | 第22-23页 |
| ·直流磁控溅射法实验步骤 | 第23页 |
| ·溶胶凝胶法结合直流磁控溅射法制作掺铂三氧化钨薄膜 | 第23-24页 |
| ·本章小结 | 第24-25页 |
| 3 三氧化钨掺杂薄膜的性能检测与分析 | 第25-47页 |
| ·三氧化钨掺杂薄膜XRD 分析 | 第25-29页 |
| ·隧道－原子力显微镜 | 第29-35页 |
| ·傅立叶红外光谱仪 | 第35-40页 |
| ·双光束紫外－可见分光光度计 | 第40-43页 |
| ·电致变色性能 | 第43-45页 |
| ·三氧化钨掺杂薄膜的电化学特性 | 第43-44页 |
| ·三氧化钨掺杂薄膜电致变色光谱分析 | 第44-45页 |
| ·正交试验结果 | 第45-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 4 氢敏感性能测试 | 第47-55页 |
| ·试验设备 | 第47-48页 |
| ·薄膜样品对不同氢浓度的透光率变化 | 第48-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 5 三氧化钨薄膜性能的影响因素分析 | 第55-59页 |
| ·贵金属铂掺杂对三氧化钨薄膜气敏性能的影响 | 第55页 |
| ·热处理温度对着色速率和着色程度的影响 | 第55-56页 |
| ·不同制膜方法对薄膜吸氢的影响 | 第56-58页 |
| ·热处理对薄膜结构的影响 | 第58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 6 结论及展望 | 第59-62页 |
| ·结论 | 第59-60页 |
| ·展望 | 第60-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-67页 |
| 附：1.作者在攻读硕士学位期间发表的论文目录 | 第67-68页 |
| 独创性声明 | 第68页 |
| 学位论文版权使用授权书 | 第68页 |