| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 目录 | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-22页 |
| ·研究进展及意义 | 第10-11页 |
| ·AlN基薄膜的结构 | 第11-12页 |
| ·AlN基薄膜的性能 | 第12-14页 |
| ·较高的硬度 | 第12页 |
| ·较强的高温抗氧化性 | 第12-13页 |
| ·良好的耐磨性能 | 第13-14页 |
| ·AIN基薄膜中复合元素对薄膜的影响 | 第14-17页 |
| ·Cr元素的复合 | 第15-17页 |
| ·Cr对(Al,Cr)N薄膜结构的影响 | 第15-16页 |
| ·Cr对(Al,Cr)N薄膜硬度的影响 | 第16页 |
| ·Cr对(Al,Cr)N薄膜高温抗氧化性能的影响 | 第16-17页 |
| ·Si元素的复合 | 第17页 |
| ·稀士等其它元素的复合 | 第17页 |
| ·制备技术 | 第17-20页 |
| ·本论文的主要研究内容 | 第20-21页 |
| ·本论文的技术路线 | 第21-22页 |
| 第二章 实验方法 | 第22-37页 |
| ·研究方案的确定 | 第22-30页 |
| ·实验方案的设计 | 第22-24页 |
| ·比例调节器的结构设计 | 第24-26页 |
| ·薄膜制备方法的确定 | 第26-27页 |
| ·薄膜制备材料的选取 | 第27页 |
| ·基体材料的选取及清洗 | 第27-28页 |
| ·实验参数的确定 | 第28-29页 |
| ·基片偏压 | 第28页 |
| ·氮分压 | 第28-29页 |
| ·靶弧流 | 第29页 |
| ·基片温度 | 第29页 |
| ·薄膜制备工艺流程 | 第29-30页 |
| ·实验设备 | 第30-33页 |
| ·Bulat-6多弧离子镀膜机的组成 | 第30-31页 |
| ·Bulat-6多弧离子镀膜机的技术特性 | 第31-33页 |
| ·弧源靶的电磁场控制 | 第31-32页 |
| ·连续式或脉冲式弧光放电 | 第32页 |
| ·弧源靶和工件之间的电磁场作用 | 第32页 |
| ·大束流冷阴极离子源 | 第32-33页 |
| ·两路进气 | 第33页 |
| ·离子束在等离子镀膜中的作用 | 第33-34页 |
| ·离子束对基片表面轰击的效应 | 第33-34页 |
| ·离子束轰击基片和膜层界面的效应 | 第34页 |
| ·离子束轰击在薄膜生长中的效应 | 第34页 |
| ·薄膜的测试与分析 | 第34-37页 |
| ·薄膜的结构成分分析 | 第34页 |
| ·薄膜表面及截面形貌分析 | 第34-35页 |
| ·薄膜硬度的测试 | 第35页 |
| ·薄膜摩擦磨损性能的测定 | 第35-36页 |
| ·薄膜高温抗氧化性研究 | 第36-37页 |
| 第三章 真空电弧沉积(Al,Cr)N薄膜及研究 | 第37-50页 |
| ·薄膜制备的工艺参数 | 第37-38页 |
| ·实验结果与讨论 | 第38-48页 |
| ·AlN薄膜的分析 | 第38-40页 |
| ·真空电弧沉积(Al,Cr)N薄膜的研究 | 第40-48页 |
| ·比例调节器控制(Al,Cr)N薄膜成分的作用 | 第40-41页 |
| ·Cr含量对(Al,Cr)N薄膜表面组织形貌的影响 | 第41-43页 |
| ·Cr含量对(Al,Cr)N薄膜截面组织形貌的影响 | 第43-44页 |
| ·Cr含量对(Al,Cr)N薄膜组织结构的影响 | 第44页 |
| ·Cr含量对(Al,Cr)N薄膜显微硬度的影响 | 第44-45页 |
| ·Cr含量对(Al,Cr)N薄膜耐磨性能的影响 | 第45-47页 |
| ·Cr含量对(Al,Cr)N薄膜高温抗氧化性能的影响 | 第47-48页 |
| ·本章小结 | 第48-50页 |
| 第四章(Al,Cr)N薄膜中加入Si元素的研究 | 第50-71页 |
| ·Al/Si合金靶的制备 | 第50-51页 |
| ·Al/Si合金靶成分的设计 | 第50页 |
| ·Al/Si合金靶制备参数 | 第50-51页 |
| ·Al/Si合金靶制作工艺流程 | 第51页 |
| ·薄膜制备的工艺参数 | 第51-53页 |
| ·实验结果与讨论 | 第53-69页 |
| ·Al/Si合金靶的应用 | 第53-54页 |
| ·Al/Si合金靶成分与组织分析 | 第53页 |
| ·Al/Si合金靶表面烧蚀 | 第53-54页 |
| ·真空电弧沉积(Al,Cr,Si)N薄膜的研究 | 第54-62页 |
| ·(Al,Cr)N薄膜中加入Si元素的成分分析 | 第54-55页 |
| ·Si元素的加入对(Al,Cr)N薄膜表面形貌的影响 | 第55-56页 |
| ·Si元素的加入对(Al,Cr)N薄膜截面形貌的影响 | 第56-57页 |
| ·Si元素的加入对(Al,Cr)N薄膜组织结构的影响 | 第57-58页 |
| ·Si元素的加入对(Al,Cr)N薄膜显微硬度的影响 | 第58-59页 |
| ·Si元素的加入对(Al,Cr)N薄膜摩擦性能的影响 | 第59-60页 |
| ·Si元素的加入对(Al,Cr)N薄膜高温抗氧化性能的影响 | 第60-62页 |
| ·离子束辅助沉积对(Al,Cr,Si)N薄膜性能影响的研究 | 第62-69页 |
| ·离子束辅助沉积对(Al,Cr,Si)N薄膜成分的影响 | 第62-63页 |
| ·离子束辅助沉积对(Al,Cr,Si)N薄膜表面形貌的影响 | 第63-64页 |
| ·离子束辅助沉积对(Al,Cr,Si)N薄膜截面形貌的影响 | 第64-65页 |
| ·离子束辅助沉积对(Al,Cr,Si)N薄膜显微硬度的影响 | 第65-66页 |
| ·离子束辅助沉积对(Al,Cr,Si)N薄膜抗磨损性能的影响 | 第66-68页 |
| ·离子束辅助沉积对(Al,Cr,Si)N薄膜抗氧化性能的影响 | 第68-69页 |
| ·本章小结 | 第69-71页 |
| 全文总结 | 第71-73页 |
| 本文的特色与创新 | 第73-74页 |
| 对制备和研究AlN基薄膜的进一步设想 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-81页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第81-82页 |
| 独创性声明 | 第82-83页 |
| 致谢 | 第83页 |
