| 第一章 绪言 | 第1-13页 |
| ·引言 | 第8-10页 |
| ·国内外研究现状 | 第10-12页 |
| ·本论文工作概述 | 第12-13页 |
| 第二章 磁电子输运测试系统 | 第13-40页 |
| ·磁电子输运测试系统总体结构 | 第13页 |
| ·可编程高斯计的设计与制作 | 第13-25页 |
| ·磁输运测试系统的搭建 | 第25-29页 |
| ·虚拟仪器控制系统的设计与组建 | 第29-32页 |
| ·测试系统的调试 | 第32-34页 |
| ·测量误差 | 第34-39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 第三章 FE_3O_4薄膜的制备 | 第40-45页 |
| ·溅射镀膜概述 | 第40页 |
| ·直流磁控溅射镀膜的基本原理及工艺 | 第40-44页 |
| ·Fe_3O_4 薄膜制备的工艺 | 第44页 |
| ·薄膜的分析方法 | 第44-45页 |
| 第四章 结果与讨论 | 第45-52页 |
| ·溅射功率对薄膜成分的影响 | 第45-46页 |
| ·Ta 缓冲层对Fe_3O_4 薄膜的影响 | 第46-48页 |
| ·退火温度对Fe_3O_4 薄膜的影响 | 第48-50页 |
| ·薄膜的MR 效应 | 第50-52页 |
| 第五章 结论 | 第52-53页 |
| 致谢 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-56页 |
| 附录 | 第56-63页 |
| 在学期间的研究成果 | 第63-64页 |
| 个人简历 | 第64页 |