| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 引言 | 第9-11页 |
| ·本研究的背景、意义 | 第9-10页 |
| ·本研究的主要内容 | 第10-11页 |
| 第二章 理论基础 | 第11-28页 |
| ·金刚石和石墨的晶体结构、性质 | 第11-17页 |
| ·金刚石和石墨的晶体结构 | 第11-13页 |
| ·金刚石和石墨的主要性质 | 第13-17页 |
| ·金刚石薄膜的结构特征和主要用途 | 第17-19页 |
| ·CVD金刚石膜的生长机理 | 第19-23页 |
| ·化学气相沉积金刚石膜的形核机理 | 第19-20页 |
| ·化学气相生长金刚石膜的理论模型 | 第20-22页 |
| ·化学气相沉积金刚石膜的主要方法 | 第22-23页 |
| ·金刚石膜的附着机理和提高法着力的方法 | 第23-24页 |
| ·实验设备与原理 | 第24-28页 |
| ·本研究所用设备及原理 | 第24-26页 |
| ·金刚石薄膜质量的表征方法 | 第26-28页 |
| 第三章 实验结果与分析 | 第28-51页 |
| ·无过渡层薄膜样品的附着性能 | 第28-29页 |
| ·样品的制备 | 第28-29页 |
| ·结果与分析 | 第29页 |
| ·Ti、Mo单层过渡层对薄膜附着性能的影响 | 第29-32页 |
| ·样品的的制备 | 第29-30页 |
| ·结果与分析 | 第30-32页 |
| ·Ti-Mo双层过渡层对薄膜附着性能的影响 | 第32-34页 |
| ·样品的制备 | 第32页 |
| ·结果与分析 | 第32-34页 |
| ·Ti-Al-Mo三层过渡层对薄膜附着性能的影响 | 第34-38页 |
| ·样品的制备 | 第34-35页 |
| ·结果与分析 | 第35-38页 |
| ·Ti-Al-Mo三层过渡层基础上的深入研究 | 第38-49页 |
| ·不同粒度金刚石微粉超声处理对薄膜形貌和附着性能影响 | 第38-41页 |
| ·沉积时间对薄膜表面形貌和附着性能的影响 | 第41-44页 |
| ·沉积温度对薄膜表面形貌的影响 | 第44-46页 |
| ·不同厚度过渡层对薄膜附着性能的影响 | 第46-49页 |
| ·结论 | 第49-51页 |
| 第四章 总结与展望 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
| 附录 | 第58页 |