| 第一章 前言 | 第1-23页 |
| ·红外焦平面阵列技术的研究进展 | 第7-13页 |
| ·非致冷微测辐射热计红外焦平面阵列(UMBIRFPA)原理及发展 状况 | 第13-18页 |
| ·红外微测辐射热计用VO2的性质及研究进展 | 第18-21页 |
| ·本实验的目的和开展的工作 | 第21-23页 |
| 第二章 薄膜理论基础 | 第23-36页 |
| ·薄膜及其特征 | 第23-24页 |
| ·薄膜的形成 | 第24-30页 |
| ·薄膜的力学性质 | 第30-36页 |
| 第三章 真空蒸发制备氧化钒薄膜工艺研究及结果分析 | 第36-45页 |
| ·真空蒸发镀膜 | 第36-40页 |
| ·用真空蒸发与真空热处理结合方法制备氧化钒薄膜 | 第40-41页 |
| ·实验结果与讨论 | 第41-44页 |
| ·小结 | 第44-45页 |
| 第四章 射频磁控溅射法制备氧化钒薄膜工艺 | 第45-51页 |
| ·溅射镀膜及其特点 | 第45-46页 |
| ·射频磁控溅射原理 | 第46-49页 |
| ·射频磁控溅射法制备氧化钒薄膜工艺 | 第49-51页 |
| 第五章 反应溅射中氧分压对氧化钒薄膜性能的影响 | 第51-59页 |
| ·氧分压对氧化钒薄膜电性能的影响 | 第51-54页 |
| ·氧化钒薄膜的X射线光电子谱(XPS)分析 | 第54-58页 |
| ·小结 | 第58-59页 |
| 第六章 真空热处理对溅射氧化钒薄膜的影响 | 第59-66页 |
| ·真空热处理对氧化钒薄膜电性能的影响 | 第59-61页 |
| ·氧化钒薄膜X射线衍射(XRD)分析 | 第61-62页 |
| ·氧化钒薄膜的XPS分析 | 第62-63页 |
| ·氧化钒薄膜的扫描电子显微镜(SEM)分析 | 第63-65页 |
| ·小结 | 第65-66页 |
| 第七章 结论 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-71页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第71-72页 |
| 致 谢 | 第72页 |