| 摘要 | 第1-6页 |
| 英文摘要 | 第6-10页 |
| 第一章 前言 | 第10-26页 |
| ·F-T合成综述 | 第10-17页 |
| ·介孔分子筛综述 | 第17-24页 |
| ·本论文的选题背景和意义 | 第24-25页 |
| ·本论文的研究设想 | 第25-26页 |
| 第二章 介孔分子筛、催化剂制备和研究方法 | 第26-32页 |
| ·介孔分子筛、催化剂制备及实验所用试剂 | 第26-27页 |
| ·介孔分子筛、催化剂表征 | 第27页 |
| ·催化性能评价 | 第27-28页 |
| ·F-T合成原料气和产物分析 | 第28-30页 |
| ·F-T合成物理量 | 第30-32页 |
| 第三章 不同类型介孔分子筛的负载钴催化剂研究 | 第32-43页 |
| ·介孔分子筛、催化剂制备 | 第32-33页 |
| ·介孔分子筛的制备 | 第32页 |
| ·催化剂制备 | 第32-33页 |
| ·催化剂表征 | 第33-37页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第33-34页 |
| ·低温N2吸脱附 | 第34-35页 |
| ·扫描电镜(SEM) | 第35-36页 |
| ·高分辨透射电镜(HRTEM) | 第36页 |
| ·程序升温还原(H_2-TPR) | 第36-37页 |
| ·F-T合成反应性能 | 第37-42页 |
| ·催化剂的反应性能 | 第37-38页 |
| ·烃分布分析 | 第38-42页 |
| ·小结 | 第42-43页 |
| 第四章 介孔分子筛合成温度对负载钴催化剂F-T合成的影响研究 | 第43-51页 |
| ·介孔分子筛、催化剂制备 | 第43页 |
| ·介孔分子筛制备 | 第43页 |
| ·催化剂制备 | 第43页 |
| ·催化剂表征 | 第43-46页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第43-44页 |
| ·低温N_2吸脱附 | 第44-45页 |
| ·程序升温还原(H_2-TPR) | 第45-46页 |
| ·F-T合成反应性能 | 第46-49页 |
| ·催化剂的反应性能 | 第46-47页 |
| ·烃分布分析 | 第47-49页 |
| ·小结 | 第49-51页 |
| 第五章 MSU-1的二步法合成--水玻璃-A(EO)9体系的确立和研究 | 第51-67页 |
| ·不同硅源的比较 | 第51-53页 |
| ·不同表面活性剂的比较 | 第53-54页 |
| ·pH的影响 | 第54-58页 |
| ·表面活性剂浓度、反应混合物中SiO_2浓度的影响 | 第58-61页 |
| ·反应温度、反应时间的影响 | 第61-64页 |
| ·焙烧温度的影响 | 第64-66页 |
| ·小结 | 第66-67页 |
| 第六章 全文总结 | 第67-70页 |
| ·工作总结 | 第67-68页 |
| ·研究特色 | 第68-69页 |
| ·回顾和展望 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-76页 |
| 发表论文 | 第76-77页 |
| 致谢 | 第77页 |
