界面沉淀法获取氧化铜超细粉体的方法研究
| 中文摘要 | 第1-5页 |
| 英文摘要 | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-18页 |
| 1．1 超细粉体的特点及应用领域 | 第9-11页 |
| 1．1．1 超细粉体的特点 | 第9-10页 |
| 1．1．2 超细粉体的应用领域 | 第10-11页 |
| 1．2 超细粉体的制备概况 | 第11页 |
| 1．3 超细粉体的化学制备方法 | 第11-16页 |
| 1．3．1 液相反应法 | 第12-15页 |
| 1．3．2 气相法 | 第15页 |
| 1．3．3 固相反应法 | 第15-16页 |
| 1．4 超细氧化铜粉体的研究现状 | 第16-17页 |
| 1．4．1 超细氧化铜粉体的应用领域 | 第16页 |
| 1．4．2 超细氧化铜粉体的化学制取方法现状 | 第16-17页 |
| 1．5 本课题研究的主要内容和思路 | 第17-18页 |
| 2 制备原理 | 第18-22页 |
| 2．1 液—液界面的微多相层理论 | 第18-20页 |
| 2．2 界面沉淀物的生成与形态控制 | 第20-21页 |
| 2．3 沉淀物分离与洗涤 | 第21页 |
| 2．4 沉淀物的干燥与热分解过程控制 | 第21-22页 |
| 3 实验部分 | 第22-31页 |
| 3．1 实验基本过程 | 第22页 |
| 3．2 实验基本试剂和设备 | 第22-23页 |
| 3．2．1 基本试剂 | 第22页 |
| 3．2．2 基本设备 | 第22-23页 |
| 3．3 超细氧化铜粉体的制备 | 第23-28页 |
| 3．3．1 P_（204）萃取硫酸铜 | 第23-25页 |
| 3．3．2 草酸反萃有机相的二价铜 | 第25页 |
| 3．3．3 沉淀洗涤与干燥 | 第25-26页 |
| 3．3．4 沉淀转化 | 第26-28页 |
| 3．4 氧化铜粉体的表征 | 第28-31页 |
| 3．4．1 扫描电镜分析 | 第28页 |
| 3．4．2 X射线衍射分析与测试 | 第28-29页 |
| 3．4．3 混合物中铜含量分析 | 第29-31页 |
| 4 实验结果及讨论 | 第31-57页 |
| 4．1 超细氧化铜粉体的表征 | 第31-35页 |
| 4．2 P_（204）的浓度对氧化铜粉体影响 | 第35-39页 |
| 4．3 硫酸铜浓度对氧化铜粉体影响 | 第39-42页 |
| 4．4 反萃条件对氧化铜粉体影响 | 第42-51页 |
| 4．4．1 反萃时间对氧化铜粉体影响 | 第42-45页 |
| 4．4．2 草酸浓度对氧化铜粉体影响 | 第45-48页 |
| 4．4．3 反萃温度对氧化铜粉体影响 | 第48-51页 |
| 4．5 煅烧温度对氧化铜粉体影响 | 第51-53页 |
| 4．6 直接沉淀法与界面沉淀法的对比 | 第53-57页 |
| 5 结论 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-62页 |
