中文摘要 | 第1-4页 |
Abstract | 第4-8页 |
第一章 文献综述与论文设想 | 第8-16页 |
·前言 | 第8页 |
·液相法制备3-甲基吲哚 | 第8-13页 |
·利用苯肼合成3-甲基吲哚 | 第8-9页 |
·传统费歇尔法合成3-甲基吲哚 | 第9页 |
·利用苯肼和硝基丙烷合成3-甲基吲哚 | 第9页 |
·脱去官能团合成3-甲基吲哚 | 第9-11页 |
·分子内成环合成3-甲基吲哚 | 第11-12页 |
·分子间成环合成3-甲基吲哚 | 第12-13页 |
·气相法制备3-甲基吲哚 | 第13-14页 |
·以吲哚与甲醇为原料气相催化合成3-甲基吲哚 | 第13-14页 |
·以苯胺和1,2-丙二醇为原料气相催化合成3-甲基吲哚 | 第14页 |
·论文设想 | 第14-16页 |
第二章 实验部分 | 第16-20页 |
·原料组成及试剂出处 | 第16页 |
·催化剂的制备 | 第16-17页 |
·Ag/SiO_2 催化剂的制备 | 第16-17页 |
·Ag/SiO_2-ZnO、Ag/SiO_2-CeO_2 及 Ag/SiO_2-La_2O_3催化剂的制备 | 第17页 |
·Ag/SiO_2-ZnO-CeO_2 及 Ag/SiO_2-ZnO-La_2O_3 催化剂的制备 | 第17页 |
·改变担载顺序的催化剂的制备 | 第17页 |
·催化反应 | 第17页 |
·产物的分析条件及计算方法 | 第17-18页 |
·产物的分析条件 | 第17-18页 |
·活性和选择性的计算 | 第18页 |
·催化剂的表征 | 第18-20页 |
·X 射线衍射(XRD) | 第18页 |
·程序升温还原(H_2-TPR) | 第18-19页 |
·程序升温脱附(NH_3-TPD) | 第19页 |
·比表面(BET) | 第19页 |
·热重(TG) | 第19-20页 |
第三章 Ag/SiO_2 催化剂的催化性能 | 第20-37页 |
·催化剂的筛选 | 第20-21页 |
·不同载体担载的不同活性组分的催化剂的活性和选择性 | 第20-21页 |
·反应条件的优化 | 第21-25页 |
·反应温度的影响 | 第21-22页 |
·反应中气体比例的影响 | 第22-25页 |
·氢气含量的影响 | 第22-23页 |
·水蒸气含量的影响 | 第23-25页 |
·催化剂制备条件的影响 | 第25-33页 |
·焙烧条件的影响 | 第25-30页 |
·焙烧方法的影响 | 第25-26页 |
·焙烧温度的影响 | 第26-29页 |
·焙烧时间的影响 | 第29-30页 |
·原位还原对Ag/SiO_2 催化剂活性和选择性的影响 | 第30-33页 |
·还原温度的影响 | 第30-31页 |
·还原混合气中氢气含量的影响 | 第31-32页 |
·还原时间的影响 | 第32-33页 |
·银担载量的影响 | 第33-36页 |
·本章小结 | 第36-37页 |
第四章 助剂对Ag/SiO_2 催化剂的作用 | 第37-51页 |
·ZnO 助剂对Ag/SiO_2 催化剂的影响 | 第37-41页 |
·CeO_2 助剂和La_2O_3 助剂对Ag/SiO_2 催化剂活性的影响 | 第41-47页 |
·CeO_2 助剂对Ag/SiO_2 催化剂活性的影响 | 第41-42页 |
·La_2O_3 助剂对Ag/SiO_2 催化剂活性的影响 | 第42-43页 |
·CeO_2 助剂和La_2O_3 助剂对Ag/SiO_2 催化剂结构的影响 | 第43-47页 |
·混合助剂对Ag/SiO_2 催化剂的影响 | 第47-51页 |
·助剂添加顺序对催化剂性能的影响 | 第47-48页 |
·助剂添加顺序对催化剂结构的影响 | 第48-51页 |
第五章 结论 | 第51-52页 |
参考文献 | 第52-57页 |
致谢 | 第57-58页 |
硕士期间发表论文 | 第58页 |