中文摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-9页 |
第1章 绪论 | 第9-26页 |
·引言 | 第9页 |
·玻璃表面的化学稳定性研究现状 | 第9-20页 |
·玻璃表面被侵蚀类型 | 第9-14页 |
·浮法玻璃的化学组成和表面结构 | 第14-17页 |
·玻璃风化理论的研究现状 | 第17-20页 |
·国内外浮法玻璃防霉技术研究现状 | 第20-22页 |
·防霉纸 | 第20页 |
·防霉液 | 第20-21页 |
·防霉粉 | 第21页 |
·曝气法 | 第21页 |
·杀菌法 | 第21页 |
·掺杂法 | 第21-22页 |
·本文研究范围 | 第22-26页 |
第2章 实验仪器和实验过程 | 第26-35页 |
·引言 | 第26页 |
·实验设备、分析仪器简介 | 第26-30页 |
·紫外可见光谱仪 | 第26页 |
·傅立叶变换显微红外-拉曼光谱仪 | 第26-27页 |
·辉光放电光谱仪 | 第27页 |
·金相显微镜 | 第27-28页 |
·高压产生装置 | 第28页 |
·电阻炉 | 第28-29页 |
·恒温恒湿箱 | 第29页 |
·电场/温度场处理装置结构 | 第29-30页 |
·实验流程 | 第30页 |
·试验方法 | 第30-35页 |
·玻璃试样的制备 | 第30页 |
·试样分组试验方案 | 第30-31页 |
·电场/温度场处理试验 | 第31-32页 |
·加速风化试验 | 第32-33页 |
·实验结果表征 | 第33-35页 |
第3章 实验结果及讨论 | 第35-54页 |
·电场/温度场处理时间对浮法玻璃表面化学稳定性的影响 | 第35-38页 |
·电场处理时间对Na+迁移距离的影响 | 第35-37页 |
·不同电场处理时间下的玻璃可见光谱图 | 第37-38页 |
·电场/温度场处理温度对浮法玻璃表面化学稳定性的影响 | 第38-43页 |
·不同电场处理温度下的玻璃可见光谱图 | 第38-40页 |
·不同电场处理温度下的玻璃红外反射光谱 | 第40-41页 |
·不同电场处理温度下的玻璃X射线光电子能谱 | 第41-42页 |
·不同电场处理温度下的玻璃风化后表面形貌 | 第42-43页 |
·电场/温度场处理电压对浮法玻璃表面化学稳定性的影响 | 第43-45页 |
·不同电压处理下的玻璃可见光谱图 | 第43-44页 |
·不同电压处理下的玻璃红外反射光谱图 | 第44页 |
·不同电压处理下的玻璃风化后表面形貌 | 第44-45页 |
·辉光放电光谱仪(GD-OES)测试结果及分析 | 第45-46页 |
·加速风化后玻璃表面形貌 | 第46-50页 |
·热处理对浮法玻璃表面化学稳定性的影响 | 第50-54页 |
·热处理后玻璃的可见光谱图 | 第51-52页 |
·热处理后玻璃的风化形貌 | 第52-54页 |
第4章 结论与展望 | 第54-57页 |
·结论 | 第54-55页 |
·展望 | 第55-57页 |
·电场/温度场法提高玻璃表面化学稳定性的可用性 | 第55页 |
·继续研究的方向 | 第55-57页 |
参考文献 | 第57-60页 |
攻读硕士学位期间发表文章目录 | 第60-61页 |
致谢 | 第61页 |