TiO2-xNx薄膜的制备及其组织性能分析
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 1 前言 | 第7-21页 |
| ·TiO_2薄膜 | 第7-12页 |
| ·TiO_2薄膜的发展 | 第7页 |
| ·TiO_2薄膜的应用 | 第7-8页 |
| ·TiO_2薄膜光催化反应机理 | 第8-10页 |
| ·TiO_2薄膜光催化效率的影响因素 | 第10-11页 |
| ·TiO_2光催化性能的改进 | 第11-12页 |
| ·N掺杂TiO_2薄膜 | 第12-14页 |
| ·N掺杂的研究进展 | 第12-13页 |
| ·N掺杂TiO_2薄膜的制备方法 | 第13-14页 |
| ·N掺杂TiO_2薄膜的应用 | 第14页 |
| ·N掺杂及光催化机理 | 第14-16页 |
| ·N掺杂机理 | 第14-15页 |
| ·N掺杂可见光催化机理 | 第15-16页 |
| ·磁控溅射法简介 | 第16-18页 |
| ·磁控溅射基本原理 | 第16-17页 |
| ·影响磁控溅射的因素 | 第17页 |
| ·磁控溅射法的特点 | 第17-18页 |
| ·课题研究的目的及意义 | 第18-20页 |
| ·选题意义 | 第18页 |
| ·研究目标与研究内容 | 第18-20页 |
| ·技术路线图 | 第20-21页 |
| 2 实验设备与测试方法 | 第21-25页 |
| ·薄膜的制备 | 第21-22页 |
| ·实验设备 | 第21页 |
| ·溅射材料的准备 | 第21-22页 |
| ·溅射参数 | 第22页 |
| ·薄膜晶化热处理 | 第22-23页 |
| ·薄膜物相分析 | 第23页 |
| ·X射线衍射(XRD)分析 | 第23页 |
| ·透射电子显微(TEM)分析 | 第23页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第23页 |
| ·薄膜的性能分析 | 第23-25页 |
| ·紫外—可见吸收光谱(UV—Vis)分析 | 第23页 |
| ·光催化性能分析 | 第23-25页 |
| 3 磁场强度对TiO_(2-x)N_x薄膜的影响 | 第25-29页 |
| ·磁场强度对薄膜结构的影响 | 第25-26页 |
| ·磁场强度对薄膜性能的影响 | 第26-27页 |
| ·不同磁场强度下薄膜的能谱图 | 第27-28页 |
| ·本章小结 | 第28-29页 |
| 4 温度对TiO_(2-x)N_x薄膜的影响 | 第29-39页 |
| ·不同热处理方法对薄膜的影响 | 第29-31页 |
| ·不同热处理对薄膜结构的影响 | 第29-30页 |
| ·热处理薄膜性能的影响 | 第30-31页 |
| ·基底温度对薄膜的影响 | 第31-38页 |
| ·基底温度对薄膜结构的影响 | 第32-33页 |
| ·基底温度对薄膜性能的影响 | 第33-34页 |
| ·TEM电子显微分析 | 第34-36页 |
| ·基底温度对薄膜光催化性的影响 | 第36-38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 5 N/O比对TiO_(2-x)N_x薄膜的影响 | 第39-49页 |
| ·N/O比对薄膜结构的影响 | 第39-40页 |
| ·N/O比对薄膜性能的影响 | 第40-41页 |
| ·XPS分析 | 第41-46页 |
| ·全谱图 | 第41-42页 |
| ·薄膜中各元素的能谱图 | 第42-44页 |
| ·不同N/O比下制备薄膜中N元素能谱 | 第44-45页 |
| ·不同N/O比下制备薄膜中O元素能谱 | 第45-46页 |
| ·N/O比对薄膜的光催化性能的影响 | 第46-47页 |
| ·本章小结 | 第47-49页 |
| 6 结论 | 第49-50页 |
| 致谢 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-55页 |
