磁控溅射制备SiC薄膜及其性能研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-25页 |
| ·课题背景 | 第10-11页 |
| ·SiC 薄膜的性质、制备及表征方法 | 第11-19页 |
| ·SiC 的结构及性质 | 第11-12页 |
| ·SiC 薄膜的制备方法 | 第12-16页 |
| ·SiC 薄膜的表征方法 | 第16-19页 |
| ·SiC 薄膜的国内外研究现状 | 第19-23页 |
| ·磁控溅射制备SiC 薄膜的研究现状 | 第20-22页 |
| ·SiC 热辐射特性研究现状 | 第22-23页 |
| ·本文主要研究内容 | 第23-25页 |
| 第2章 SiC 薄膜的制备及试验方法 | 第25-30页 |
| ·SiC 薄膜的制备系统及原理 | 第25-27页 |
| ·SiC 薄膜的制备 | 第27-28页 |
| ·衬底预处理 | 第27页 |
| ·试验过程 | 第27-28页 |
| ·SiC 薄膜的结构及性能表征方法 | 第28-29页 |
| ·拉曼光谱(Raman)分析 | 第28页 |
| ·傅立叶变换红外光谱(FTIR)分析 | 第28页 |
| ·X 射线光电子能谱(XPS)分析 | 第28-29页 |
| ·X 射线衍射(XRD)分析 | 第29页 |
| ·激光共聚焦显微镜(LSCM)观察 | 第29页 |
| ·本章小结 | 第29-30页 |
| 第3章 磁控溅射制备SiC 薄膜的结构及成分研究 | 第30-36页 |
| ·溅射功率对SiC 薄膜结构及成分的影响 | 第30-31页 |
| ·衬底温度对SiC 薄膜结构及成分的影响 | 第31-33页 |
| ·衬底偏压对SiC 薄膜结构及成分的影响 | 第33-34页 |
| ·本章小结 | 第34-36页 |
| 第4章 SiC 薄膜热稳定性及抗氧化机制研究 | 第36-48页 |
| ·SiC 薄膜的高温退火试验 | 第36页 |
| ·SiC 薄膜的热稳定性 | 第36-39页 |
| ·SiC 薄膜的微结构 | 第36-37页 |
| ·高温对SiC 薄膜结构的影响 | 第37-39页 |
| ·SiC 薄膜的抗氧化机制 | 第39-47页 |
| ·高温对SiC 薄膜成分的影响 | 第39-45页 |
| ·SiC 薄膜的表面形貌 | 第45-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 第5章 SiC 薄膜热辐射特性研究 | 第48-55页 |
| ·SiC 薄膜的发射率测试设备及原理 | 第48-50页 |
| ·SiC 薄膜的发射率 | 第50-53页 |
| ·本章小结 | 第53-55页 |
| 结论 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-62页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第62页 |
| 申请专利 | 第62-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 个人简历 | 第65页 |
