摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-9页 |
第1章 绪论 | 第9-23页 |
·引言 | 第9-10页 |
·微光学发展状况与趋势 | 第10-16页 |
·理论发展状况 | 第10-11页 |
·应用状况及前景 | 第11-12页 |
·制作方法及其发展状况 | 第12-16页 |
·掩模成型技术的发展 | 第16-21页 |
·快速成型技术概述 | 第16-17页 |
·快速成型技术在一般零件件制作中应用 | 第17-18页 |
·快速成型技术应用于微小器件制作 | 第18-19页 |
·掩模成型技术 | 第19-21页 |
·论文研究方案及结构安排 | 第21-23页 |
·研究方案 | 第21页 |
·文章结构安排 | 第21-23页 |
第2章 基于面成型微光学器件的硬件系统 | 第23-27页 |
·硬件组成 | 第23-25页 |
·制作工艺过程 | 第25页 |
·算法结构和软件选取 | 第25-27页 |
第3章 控制算法的设计实现 | 第27-53页 |
·编程环境概述 | 第27-32页 |
·三维建模软件AutoCAD概述 | 第27-28页 |
·Visual C++ 6.0 集成开发环境(IDE) | 第28-29页 |
·OpenGL概述 | 第29-32页 |
·CAD文件的输出 | 第32-34页 |
·STL文件格式 | 第32-34页 |
·STL文件输出 | 第34页 |
·VC环境下重构STL模型及显示 | 第34-45页 |
·STL文件读取 | 第34-35页 |
·STL模型拓扑信息重建 | 第35-39页 |
·STL模型的显示 | 第39-45页 |
·STL模型切片算法设计 | 第45-48页 |
·STL模型切片处理的基本过程 | 第45-46页 |
·基于STL模型拓扑信息提取的切片算法 | 第46-48页 |
·控制图形的生成 | 第48-53页 |
·控制图形的填充算法设计 | 第48-51页 |
·扫描填充 | 第51-52页 |
·控制成型图形的保存 | 第52-53页 |
第4章 控制算法在菲涅耳波带透镜中的应用 | 第53-64页 |
·引言 | 第53页 |
·模拟退火遗传算法概述 | 第53-54页 |
·相位型菲涅耳波带透镜的评价函数 | 第54-56页 |
·理论公式推导 | 第54-55页 |
·菲涅耳波带透镜的评价函数 | 第55-56页 |
·利用模拟退火遗传算法对菲涅耳波带透镜进行优化设计 | 第56-59页 |
·参数设置 | 第57页 |
·编码 | 第57页 |
·算法操作 | 第57-59页 |
·优化结果 | 第59页 |
·控制算法应用 | 第59-64页 |
·透镜三维建模 | 第60页 |
·透镜STL模型的重现 | 第60-61页 |
·透镜横向切片截面轮廓填充 | 第61-62页 |
·仿真结果 | 第62-64页 |
第5章 全文总结 | 第64-66页 |
·本论文主要研究内容总结 | 第64页 |
·论文主要贡献及创新 | 第64-65页 |
·进一步工作展望 | 第65-66页 |
参考文献 | 第66-70页 |
发表论文和参加科研情况 | 第70-71页 |
研究生期间发表的论文 | 第70-71页 |
致谢 | 第71-72页 |