TC4钛合金微弧氧化膜的制备表征及阴极微弧放电机制研究
| 提要 | 第1-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-27页 |
| ·微弧氧化技术研究概况 | 第11-13页 |
| ·MAO技术特点及应用 | 第11-12页 |
| ·MAO技术的发展及现状 | 第12-13页 |
| ·MAO的机理 | 第13-17页 |
| ·钛合金MAO技术 | 第17-25页 |
| ·钛合金MAO技术的研究现状 | 第18-19页 |
| ·钛合金MAO膜的特点 | 第19页 |
| ·钛合金MAO膜的应用 | 第19-20页 |
| ·影响钛合金MAO膜制备的因素 | 第20-22页 |
| ·用于钛合金MAO的电源 | 第22-23页 |
| ·钛合金MAO所需的处理液 | 第23-25页 |
| ·钛合金MAO技术中存在的问题 | 第25页 |
| ·论文的选题及主要研究内容 | 第25-27页 |
| 第二章 MAO膜的制备系统及实验方法 | 第27-43页 |
| ·MAO膜的制备系统 | 第27页 |
| ·多功能MAO电源的研制 | 第27-39页 |
| ·电源整体结构概述 | 第28-30页 |
| ·电源主供电回路的结构和工作原理 | 第30-31页 |
| ·控制电路的组成及工作原理 | 第31-34页 |
| ·基于PCA 的波形调控电路 | 第34-37页 |
| ·电源的固件及软件 | 第37-39页 |
| ·钛合金MAO的工艺流程 | 第39-40页 |
| ·实验细节及测试方法 | 第40-43页 |
| ·实验基材的选择 | 第40页 |
| ·实验所需的化学试剂 | 第40-41页 |
| ·实验技术路线 | 第41-42页 |
| ·MAO膜的表征手段 | 第42-43页 |
| 第三章 处理液对MAO膜特性影响的研究 | 第43-61页 |
| ·引言 | 第43页 |
| ·样品的准备及实验条件 | 第43-44页 |
| ·处理液组分和浓度对起弧电压的影响 | 第44-45页 |
| ·处理液对MAO膜生长特性的影响 | 第45-48页 |
| ·处理液对MAO膜厚度的影响 | 第46-47页 |
| ·处理液浓度对MAO过程中电源效率的影响 | 第47-48页 |
| ·处理液对MAO膜相组成的影响 | 第48-53页 |
| ·处理液对MAO膜相组成的影响 | 第48-52页 |
| ·处理液对MAO膜相含量的影响 | 第52-53页 |
| ·处理液对MAO膜形貌的影响 | 第53-55页 |
| ·MAO膜的表面照片 | 第53-54页 |
| ·MAO膜的微观形貌 | 第54-55页 |
| ·处理液对MAO膜耐蚀性的影响 | 第55-59页 |
| ·处理液体系对制备试样腐蚀电位的影响 | 第55-56页 |
| ·处理液体系对制备试样极化曲线的影响 | 第56-59页 |
| ·本章小结 | 第59-61页 |
| 第四章 阳极电压脉冲参数对MAO膜特性影响的研究 | 第61-79页 |
| ·引言 | 第61页 |
| ·试样的制备及实验条件 | 第61-62页 |
| ·阳极峰值电压对MAO膜特性的影响 | 第62-65页 |
| ·阳极峰值电压对膜厚的影响 | 第62-63页 |
| ·阳极峰值电压对MAO膜相组成的影响 | 第63-64页 |
| ·阳极峰值电压对MAO膜微观形貌的影响 | 第64-65页 |
| ·阳极脉冲频率对MAO膜特性的影响 | 第65-68页 |
| ·脉冲频率对膜厚的影响 | 第66-67页 |
| ·脉冲频率对膜层相组成的影响 | 第67-68页 |
| ·脉冲频率对氧化膜表面形貌的影响 | 第68页 |
| ·阳极脉冲占空比对MAO膜特性的影响 | 第68-73页 |
| ·占空比对MAO膜生长特性的影响 | 第69-70页 |
| ·占空比对膜厚的影响 | 第70-71页 |
| ·占空比对膜层相组成的影响 | 第71-72页 |
| ·占空比对膜表面形貌的影响 | 第72-73页 |
| ·处理时间对MAO膜特性的影响 | 第73-77页 |
| ·处理时间对膜厚的影响 | 第73-75页 |
| ·处理时间对MAO膜相组成的影响 | 第75-76页 |
| ·处理时间对MAO膜表面形貌的影响 | 第76-77页 |
| ·本章小结 | 第77-79页 |
| 第五章 阴极微弧放电机制及其对膜特性的影响 | 第79-107页 |
| ·引言 | 第79页 |
| ·试样的准备及实验条件 | 第79-80页 |
| ·阴极峰值电压对MAO膜特性的影响 | 第80-90页 |
| ·电学参数的变化规律 | 第81-82页 |
| ·阴极峰值电压对膜厚的影响 | 第82-84页 |
| ·阴极峰值电压对MAO膜相组成的影响 | 第84-85页 |
| ·阴极峰值电压对氧化膜微观结构的影响 | 第85-87页 |
| ·阴极峰值电压对制备试样耐蚀性的影响 | 第87-88页 |
| ·阴极微弧放电现象及其作用模型 | 第88-90页 |
| ·阴极脉冲占空比对膜特性的影响 | 第90-97页 |
| ·占空比对电流的影响 | 第91-92页 |
| ·占空比对膜厚的影响 | 第92-93页 |
| ·占空比对MAO膜相组成的影响 | 第93-94页 |
| ·占空比对MAO膜微观形貌的影响 | 第94-96页 |
| ·占空比对MAO膜显微硬度的影响 | 第96-97页 |
| ·阴极微弧放电作用时间对膜特性的影响 | 第97-102页 |
| ·膜厚的变化规律 | 第98页 |
| ·处理时间对MAO膜相组成的影响 | 第98-100页 |
| ·处理时间对MAO膜微观形貌的影响 | 第100-102页 |
| ·处理时间对MAO膜显微硬度的影响 | 第102页 |
| ·阴极微弧放电的机理分析 | 第102-106页 |
| ·阴极微弧放电的成膜顺序 | 第102-103页 |
| ·阴极微弧放电中的阻容效应 | 第103-105页 |
| ·影响阴极微弧放电的条件 | 第105-106页 |
| ·本章小结 | 第106-107页 |
| 结论 | 第107-109页 |
| 参考文献 | 第109-120页 |
| 博士期间发表的论文 | 第120-121页 |
| 致谢 | 第121-122页 |
| 中文摘要 | 第122-125页 |
| 英文摘要 | 第125-127页 |
