| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-19页 |
| ·ZnO的基本性质和稀磁半导体的概念 | 第9-11页 |
| ·ZnO基稀磁半导体的研究现状 | 第11-14页 |
| ·ZnO基稀磁半导体的制备方法 | 第14-16页 |
| ·分子束外延低温生长技术(MBE) | 第14页 |
| ·离子注入技术 | 第14页 |
| ·溶胶凝胶法 | 第14-15页 |
| ·水热法 | 第15页 |
| ·其它制备方法 | 第15-16页 |
| ·ZnO基稀磁半导体纳米器件材料的特点及应用前景 | 第16页 |
| ·目前存在的困难 | 第16-17页 |
| ·选题意义与研究目标 | 第17-19页 |
| 第2章 实验设计和测试介绍 | 第19-27页 |
| ·实验原理、方法和步骤 | 第19-20页 |
| ·测试仪器及原理介绍 | 第20-26页 |
| ·X射线衍射仪(XRD) | 第20-22页 |
| ·环境扫描电镜(SEM) | 第22-24页 |
| ·光致发光(PL) | 第24-26页 |
| ·小结 | 第26-27页 |
| 第3章 正交实验设计与分析 | 第27-32页 |
| ·引言 | 第27页 |
| ·数据设计与图表分析 | 第27-31页 |
| ·小结 | 第31-32页 |
| 第4章 实验条件对Zn_(0.85)Mn_(0.15)O粉体结构和形貌的影响 | 第32-52页 |
| ·引言 | 第32页 |
| ·不同的溶液前驱物浓度 | 第32-39页 |
| ·实验设计 | 第32-34页 |
| ·X射线衍射分析 | 第34-36页 |
| ·扫描电镜分析 | 第36-38页 |
| ·生长机理解释 | 第38-39页 |
| ·不同的PH值 | 第39-43页 |
| ·实验设计 | 第39页 |
| ·X射线衍射分析 | 第39-40页 |
| ·扫描电镜分析 | 第40-42页 |
| ·生长机解释 | 第42-43页 |
| ·不同的温度 | 第43-46页 |
| ·实验设计 | 第43-44页 |
| ·X射线衍射分析 | 第44页 |
| ·扫描电镜分析 | 第44-45页 |
| ·生长机理解释 | 第45-46页 |
| ·不同的反应时间 | 第46-48页 |
| ·实验设计 | 第46页 |
| ·X射线衍射分析 | 第46-47页 |
| ·扫描电镜分析 | 第47-48页 |
| ·生长机理解释 | 第48页 |
| ·小结 | 第48-52页 |
| 第5章 不同掺杂比Zn_(1-x)Mn_xO粉体的制备与表征 | 第52-57页 |
| ·引言 | 第52页 |
| ·实验设计 | 第52-53页 |
| ·形貌、组分及结构分析 | 第53-56页 |
| ·小结 | 第56-57页 |
| 总结 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 攻读硕士学位期间科研成果 | 第65页 |