| 摘要 | 第1-7页 |
| 引言 | 第7-9页 |
| 第一章 信息记录介质发明专利申请总体分析 | 第9-22页 |
| 第一节 记录介质的概念及技术发展历程 | 第9-12页 |
| 一、光记录介质 | 第9-11页 |
| 二、磁记录介质 | 第11-12页 |
| 三、半导体记录介质 | 第12页 |
| 第二节 记录介质全球专利申请分析 | 第12-17页 |
| 一、专利趋势 | 第12-14页 |
| 二、区域专利布局 | 第14-15页 |
| 三、重点技术专利 | 第15-16页 |
| 四、主要申请人 | 第16-17页 |
| 第三节 中国记录介质专利申请分析 | 第17-22页 |
| 一、专利趋势 | 第17-18页 |
| 二、重点技术专利 | 第18-20页 |
| 三、主要申请人 | 第20页 |
| 四、分析结论 | 第20-22页 |
| 第二章 国外记录介质专利审查状况研究 | 第22-30页 |
| 第一节 各国对“信息记录介质”的专利审查标准 | 第22-26页 |
| 一、美国 | 第22-24页 |
| 二、欧洲 | 第24-25页 |
| 三、日本、韩国 | 第25-26页 |
| 第二节 国外主要专利局对“计算机可读介质”审查标准与我国的区别 | 第26-27页 |
| 一、对以计算机程序为特征的计算机可读介质的审查标准的区别 | 第26-27页 |
| 二、对以“应用格式”限定的记录介质的审查标准的区别 | 第27页 |
| 第三节 国外记录介质专利审查制度的借鉴意义 | 第27-30页 |
| 一、专利审查标准要与国内行业发展状况相适应 | 第27-28页 |
| 二、专利审查标准应与时俱进，适时调整 | 第28-30页 |
| 第三章 我国“记录介质”专利审查标准及其完善 | 第30-48页 |
| 第一节 我国目前的专利审查标准及存在的问题 | 第30-40页 |
| 一、对以物理结构特征为主要特征的记录介质的审查标准 | 第31页 |
| 二、对以逻辑结构为主要特征的记录介质的审查标准及其存在的问题 | 第31-35页 |
| 三、对所记录的计算机程序或所记录的信息和/或方法为主要特征的记录介质的审查标准及其存在的问题 | 第35-40页 |
| 第二节 对现有审查中存在问题的改进建议 | 第40-45页 |
| 一、明确判断的标准，统一审查结论 | 第41-44页 |
| 二、适当拓宽对信息记录领域“特殊审查”的范围 | 第44页 |
| 三、审查业务部门之间要加强沟通交流，统一审查标准 | 第44-45页 |
| 第三节 对我国“记录介质”领域专利制度上的其他建议 | 第45-48页 |
| 一、记录介质领域应建立专利分析与专利审查的联动机制 | 第45-46页 |
| 二、鼓励企业自主创新，促进企业建立完善的知识产权体制 | 第46页 |
| 三、确立正确的专利申请策略 | 第46-48页 |
| 结论 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-51页 |
| 致谢 | 第51页 |
